[实用新型]一种纳米复合树脂滤光面板

说明书

本实用新型涉及一种光学器件，具体涉及一种纳米复合树脂滤光面板。

滤光面板是一种用来过滤所需辐射波段的光学器件，通常用于电子器材显示屏上，如手机屏、控制屏、导航仪屏、数显仪表屏、平板电脑等，这些光学窗口器件的一个特点就是它要承担无数次的触摸，除了对窗口表面抗磨损、抗冲击的要求之外，还对窗口的面形、截止有害光谱、透过可见光谱等光学性能都有要求，目前，此类光学窗口器件多由高透可见光基体光学材料及粘贴在基体表面的蓝宝石片构成，但是这种大尺寸超薄蓝宝石镜面的价格非常昂贵，另外，蓝宝石镜面材料切割加工成型难度大、损坏率高，对于一些特殊面形的镜面更是难以加工。

针对现有技术的不足，本实用新型提出了一种纳米复合树脂滤光面板，其工艺简单、价格便宜、耐磨损、抗紫外线、防眩光。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种纳米复合树脂滤光面板，其为双层结构，外层A为附着膜系6的光学基片3，内层B为纳米复合树脂基片，该光学基片由聚碳酸酯树脂或光学塑料制成。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述光学基片3厚度为1‑2mm。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述膜系6由氧化硅层1和碳化硅层2交替叠加，形成7‑15层的层状结构，最外层为氧化硅层。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述氧化硅层1厚度为30‑60nm，所述碳化硅层2厚度为50‑200nm。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述氧化硅层1厚度为30‑60nm，所述碳化硅层2厚度为50‑200nm。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述纳米复合树脂基片的厚度为1‑3mm，该基片在580nm处眩光透过率低于10％，480nm处蓝光透过率低于2％，380nm以下紫外光透过率低于0.2％。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述纳米复合树脂基片由纳米复合CR39树脂或纳米复合KOC树脂制成。优选地，所述纳米复合树脂基片为CR39树脂或KOC树脂参杂过渡金属氧化物纳米颗粒制成，更优选采用江苏华天通科技有限公司生产的过渡金属氧化物纳米材料复合树脂基片。

如上所述的纳米复合树脂滤光面板，优选地，所述内层B上涂布一层硬化剂7，外层A和具有硬化剂层的内层B间采用导电胶水粘结。

本实用新型的有益效果在于，该滤光面板能有效阻挡有害光线，380nm以下紫外光透过率低于0.2％，保护眼睛，在630‑690nm光谱范围内平均透过率达80％。最外层为氧化硅层，表层硬度达1700HV以上。外层膜系采用磁控溅射镀膜，工艺简单，制造成本只相当于贴蓝宝石片的光学滤光面板的1/6。

图1为实施例1外层附着膜系的光学基片结构示意图。

图2为实施例1纳米复合树脂滤光面板结构示意图。

以下仅以实施例说明本实用新型可能的实施方式，然并非用以限制本实用新型所要求的保护范围。

实施例1纳米复合树脂滤光面板(1)

实施例1纳米复合树脂滤光面板(1)

如图1和2所示，箭头方向为入射光方向，该面板为内外二层复合结构，其中外层A为光学基片3及设置在所述该基片上的膜系6，该基片厚度为2mm，该膜系由氧化硅层1和碳化硅层2交替叠加构成，共7层，采用磁控溅射镀膜方法制备。氧化硅层和碳化硅层的每层平均厚度分别为50nm、110nm。最外层为氧化硅层，表层硬度达1750HV。膜系厚度为560nm，外层基片650‑690nm光谱范围内平均透过率达到88％。

内层B为纳米复合树脂基片，该基片内含氧化钴、氧化铁两种纳米粒子，该纳米材料可采用ZL96101878.X专利方法制造，本实施例采用江苏华天通科技有限公司生产的含氧化钴、氧化铁纳米材料复合树脂基片。该纳米复合树脂基片厚度在2mm，在580nm处眩光透过率低于9％、480nm处蓝光透过率低于1.5％，380nm以下紫外光透过率低于0.1％。在内层基片上涂布一层丙烯酸酯硬化剂7，采用浸入工艺，该涂布硬化层厚度约在3微米，完成后用导电胶水粘牢内外层基片。复合后的树脂滤光面板能有效阻挡有害光线，380nm以下紫外光透过率低于0.1％，镜片在630‑690nm光谱范围内平均透过率达85％，该树脂滤光面板制造成本只相当于贴蓝宝石片的光学滤光面板的1/6。样品的检测结果如表1所示。

实施例2纳米复合树脂滤光面板(2)