[实用新型]UV转印微透镜阵列

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于构成微透镜防伪标识的UV转印微透镜阵列，具体地说，是涉及一种制作在UV固化材料表面上的浮雕形状二元相位微透镜阵列。

背景技术

在专利“微透镜防伪标识”(专利号：201020143542.1)中提供了一种采用微透镜阵列的防伪标识，即由微透镜阵列与微图文阵列重叠组成的双层图形复合结构防伪标识。

专利“微透镜防伪标识”中提供的微透镜阵列制作工艺是，将设计的微透镜阵列图案制作成光刻胶母版，经过电铸金属版，利用模压、热压等已有技术将微透镜阵列浮雕结构制作在透明的薄膜或薄片表面上。这种由模压、热压等工艺直接制作在薄膜或薄片表面上的浮雕型微透镜阵列存在易磨损，易污染的缺点，并且还有生产效率低的问题。

发明内容

为了克服采用模压、热压等工艺直接制作在薄膜或薄片表面上的微透镜阵列的不足，本实用新型提供一种采用UV(紫外线)转印工艺制作在UV固化材料表面上的微透镜阵列。它具有UV固化材料的耐磨损，抗污染特性，并可采用生产能力高的UV转印设备来提高生产效率。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：通过UV转印工艺和设备，将制作在转移膜上的微透镜阵列浮雕图案，转印到UV固化材料的表面上，固化成型，制作成具有浮雕形状的UV转印二元相位微透镜阵列。

UV转印微透镜阵列的制作工艺流程：首先将设计的微透镜阵列图案用制版设备制作成光刻胶母版，再将光刻胶母版电铸为金属镍版，再经拼版、模压等工艺，将微透镜阵列图案制作在转移膜上。然后将转移膜安装在UV转印设备上，通过UV转印设备将转移膜上的微透镜阵列图案，转印到透明基材表面涂敷的UV固化材料层的表面上，经固化成型，制作成具有浮雕形状的UV转印二元相位微透镜阵列。

UV转印微透镜阵列的基本结构包括：透明基材(一般是透明塑料片或透明塑料薄膜)，透明基材表面涂敷的一层UV固化材料(俗称UV光油)，UV固化材料层表面固化成型的微透镜阵列浮雕图案。

UV转印微透镜阵列可用于分体式微透镜防伪标识。这种情况下的透明基材一般选用厚度为0.5毫米至1毫米的片材。

UV转印微透镜阵列也可用于复合一体式微透镜防伪标识。这种情况下的透明基材一般选用厚度为数十微米至100微米的卷材。

UV转印微透镜阵列中的微透镜排列方式有两种。一种是专利“微透镜防伪标识”(专利号：201020143542.1)中提供的按照正方形方式排列的微透镜阵列。另一种是专利“一种用于构成微透镜防伪标识的微透镜阵列”(专利号：201220325232.0)中提供的按照正三角形方式排列的微透镜阵列。具体排列方式在微透镜阵列设计时确定。

用UV转印微透镜阵列观察相应的微图文阵列，具有微图文放大效果和立体动态识别特征。

本实用新型的有益效果是，在UV固化材料表面上制作的UV转印微透镜阵列具有耐磨损，抗污染特性。采用生产能力高的UV转印设备能够有效提高生产效率。特别适合于产品推广，应用前景良好。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是UV转印微透镜阵列的结构示意图。

图2是一种UV转印的按照正方形方式排列的微透镜阵列图案。

图3是一种UV转印的按照正三角形方式排列的微透镜阵列图案。

具体实施方式

UV转印微透镜阵列的结构如图1所示。图中，1为透明基材，2为透明基材表面上涂敷的UV固化材料层，3为经过UV转印在UV固化材料层表面固化成型的微透镜阵列浮雕图案。

实施例1：用UV转印工艺设备，将图2所示的一种按照正方形方式排列的二元相位微透镜阵列制作在UV固化材料层表面上，固化成型为微透镜阵列浮雕图案。

实施例2：用UV转印工艺设备，将图3所示的一种按照正三角形方式排列的二元相位微透镜阵列制作在UV固化材料层表面上，固化成型为微透镜阵列浮雕图案。

实施例1和实施例2中的微透镜阵列的排列方式不同，这在微透镜阵列图案设计时已经确定，后续的制作过程都是一样的。

首先按照微透镜阵列的设计图案利用制版设备制作微透镜阵列的光刻胶母版，再将光刻胶母版电铸为金属镍版，再经拼版、模压等工艺，将微透镜阵列图案制作在转移膜上。然后将制作有微透镜阵列图案的转移膜安装在UV转印设备上，通过UV转印设备将转移膜上的微透镜阵列图案，转印到透明基材表面涂敷的UV固化材料层的表面上，固化成型，制作成具有浮雕形状的UV转印微透镜阵列。透明基材表面涂敷UV固化材料层的工艺和UV固化成型、剥离等工艺，由UV转印设备自动完成。采用生产能力高的的UV转印设备能够有效提高生产效率。