[实用新型]用于将RF能量施加到旋转室的装置

权利要求书

1.一种用于通过以多个激发设置施加的RF能量来处理物体的装置，所述装置包括： 

控制器、一个或多个辐射元件和能量施加区域； 

其中，所述控制器电耦合到所述一个或多个辐射元件，所述一个或多个辐射元件将RF能量辐射到所述能量施加区域并且辐射到旋转室； 

并且其中，所述控制器配置成从多个引导激发设置当中选择一个或多个激发设置，用于将RF能量施加到所述旋转室；以及 

使RF能量源按一个或多个选定激发设置施加RF能量，其中所述控制器配置成选择所述一个或多个激发设置而且使所述RF能量源在所述旋转室的单次旋转期间按所述一个或多个选定激发设置施加RF能量至少两次。 

2.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器配置成选择所述一个或多个激发设置并使所述RF能量源在所述旋转室的旋转的至少一半的期间按所述一个或多个选定激发设置施加RF能量至少两次。 

3.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器配置成选择所述一个或多个激发设置并使所述RF能量源在所述旋转室的单次旋转期间按所述一个或多个选定激发设置施加RF能量至少10次。 

4.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器配置成选择所述一个或多个激发设置并使所述RF能量源在所述旋转室的旋转的至少一半的期间按所述一个或多个选定激发设置施加RF能量至少10次。 

5.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器还配置成从所述旋转室接收电磁（EM）反馈并基于所述EM反馈选择所述一个或多个激发设置。 

6.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器配置成基于与所述多个激发设置相关的RF能量吸收特征来选择所述一个或多个激发设置。 

7.如权利要求1所述的装置，其中所述一个或多个选定激发设置每个 与比所述多个引导激发设置的其它激发设置的RF能量吸收水平高的RF能量吸收水平相关，所述其它激发设置不在所述一个或多个选定激发设置中。 

8.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器配置成： 

使RF能量按两个或多个引导激发设置来施加； 

从所述旋转室接收EM反馈；以及 

基于所述EM反馈从所述引导激发设置当中选择所述一个或多个选定激发设置。 

9.如权利要求8所述的装置，其中所述控制器配置成使RF能量以小于第一功率水平的功率水平按所述两个或多个引导激发设置来施加，以及使RF能量以高于所述第一功率水平的第二功率水平按所述一个或多个选定激发设置来施加。 

10.如权利要求5所述的装置，其中所述反馈表示按所述多个引导激发设置所施加的RF能量能够在所述旋转室中被吸收的程度。 

11.如权利要求8所述的装置，其中所述控制器配置成基于所述一个或多个激发设置是否与具有大于预定阈值的宽度的RF能量吸收峰值相关来选择所述一个或多个激发设置。 

12.如权利要求1所述的装置，还包括所述RF能量源。 

13.如权利要求1所述的装置，其中所述装置是干燥器。 

14.如权利要求1所述的装置，其中所述引导激发设置包括在两个辐射元件的发射之间的相位差上彼此不同的激发设置。 

15.如权利要求1所述的装置，其中所述控制器配置成在比RF能量按所述引导激发设置施加时的总持续时间大至少5倍的总持续时间内使RF能量按所述选定激发设置来施加。 

16.如权利要求1所述的装置，其中按引导激发设置的能量施加的平均持续时间比按选定激发设置的能量施加的平均持续时间短至少10倍。 

17.如权利要求1所述的装置，其中所施加的RF能量只落在一个或 多个ISM频带内。