[实用新型]一种掩模框架及其对应的掩模组件有效

专利信息
申请号: 201320094364.1 申请日: 2013-03-01
公开(公告)号: CN203159697U 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;潘世珎;张炜平 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 框架 及其 对应 模组
【权利要求书】:

1.一种掩模框架,包括边框、连接机构、强化槽,其特征在于,所述边框为两组对边构成的中空框架结构,所述强化槽为平行于所述对边长度方向的长条通孔且设置在所述对边上,所述对边上有穿过所述长条通孔的孔,所述孔被所述长条通孔截断形成内侧孔和外侧孔,所述外侧孔为通孔,所述连接机构是一端具有直径大于所述外侧孔直径的端部及具有外螺纹的杆部,所述内侧孔有螺纹且与所述杆部连接。

2.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述边框是一体成型结构或由所述对边连接形成的结构。

3.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述强化槽是与所述对边一体成型形成的结构或是由所述对边的内外侧部件连接形成的结构。

4.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述强化槽是至少有一组形成在所述对边上。

5.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述孔是贯穿通孔或所述内侧孔是盲孔。

6.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述孔在所述对边上规律排布。

7.根据权利要求6所述的掩模框架,其特征在于,所述孔是中间密集两端稀疏排布或均匀排布或中间稀疏两端密集。

8.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述掩模框架包括支撑杆,所述支撑杆与所述对边的内侧连接。

9.一种掩模组件,其特征在于,所述掩模组件包括权利要求1-7提及的所述掩模框架和掩模部件,所述掩模部件与所述掩模框架有固定联接部位,所述固定联接部位固定联接在构成所述掩模框架的所述对边的上表面且在所述强化槽的内侧,所述掩模部件包括掩模图案区域,所述掩模部件是整体一块或多个单元拼接而成的结构。

10.根据权利要求9所述的掩模组件,其特征在于,所述固定联接部位为胶联接结构或焊接结构。

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