[实用新型]一种直列多靶磁控溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，包括1个真空室，真空室内设置有n个矩形溅射靶（3）、1个基片架、1个基片加热器、1个直线运动机构，真空室外具有1个步进电机；其特征在于，所述真空室为箱式真空室，n个矩形溅射靶相互平行并共轴排成一列，靶间距小于矩形靶宽度的2倍，所有矩形溅射靶的宽度方向都平行于真空室的长边；矩形溅射靶上方设置有一个直线运动结构，基片架和基片加热器固定于直线运动机构之上，并在步进电机的驱动下能够沿真空室的长边作直线往复运动，直线往复运动的起始点、终止点和运动速度由一个控制器进行编程设置，其最大行程覆盖了所有矩形溅射靶。 

2.根据权利要求1所述的一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述矩形溅射靶的个数n≥3。 

3.根据权利要求1所述的一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述矩形靶的长度大于等于矩形靶的宽度的3倍。 

4.根据权利要求1所述的一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述n个矩形溅射靶的磁控溅射电源为直流电源、射频电源、中频电源或脉冲电源，或是以上几种电源的任意组合。 

5.根据权利要求1所述的一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述直线运动机构为丝杠式、皮带式或链条式。