[实用新型]风刀单元有效
申请号: | 201320101342.3 | 申请日: | 2013-03-06 |
公开(公告)号: | CN203155650U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 王俊明;薄昌盛;赵虎;张云晓;郭静胜 | 申请(专利权)人: | 郑州旭飞光电科技有限公司;东旭集团有限公司 |
主分类号: | B08B11/04 | 分类号: | B08B11/04;F26B21/00;B08B3/04 |
代理公司: | 郑州中原专利事务所有限公司 41109 | 代理人: | 张春;李想 |
地址: | 450016 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单元 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种应用在玻璃基板清洗工序中承担干燥作用的风刀单元。
背景技术
在液晶玻璃基板的生产过程中,较为重要的一道工序是基板的清洗干燥,玻璃基板的清洗干燥效果是通过测量基板表面附着的尘埃颗粒来恒定清洗是否合格。颗粒数越低,清洗效果越好,成品品质越好。清洗干燥工序承担基板最终干燥任务的是风刀单元。风刀单元的风刀本体前方传送轮是带O型圈的辊轮,O型圈长时间受风刀风力吹刮作用后一方面老化较快,使用寿命缩短,另一方面O型圈表面开裂,微小裂纹集纳的灰尘颗粒在玻璃基板通过时残留在玻璃基板粘附的水体中,当风刀将玻璃基板表面的水幕吹落,灰尘和污渍留在基板上,造成二次污染,主要增加直径为0.1-3微米的小颗粒,表现形式为日光灯下不可见,卤素灯下可见,形成固定位置的轮印,影响产品品质,尤其是造成整版颗粒度超规格值而废弃或再次清洗。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种减少玻璃基板二次污染,提高玻璃基板品质的风刀单元。
为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种风刀单元,它包括风刀单元箱体、风刀单元本体及位于风刀本体下方的传送轮,传送轮上套有O型圈,在传送轮的下方设置水槽。
在所述水槽的一侧设置进水口,在水槽的底部设置排水口。
采用上述技术方案的本实用新型,不仅减少风刀单元O型圈产生的轮印,降低了基板的小颗粒数污染,提高了产品品质,而且由于O型圈一直侵泡在纯水中,老化速度降低,使用寿命得到延长。
附图说明
图1为原有风刀单元整体结构示意图。
图2为本实用型新风刀单元整体结构示意图。
具体实施方式
如图2所示,一种风刀单元,它包括风刀单元本体2及位于风刀本体下方的传送轮3,传送轮3上套有O型圈7,本实用新型在传送辊轮3的下方设置水槽4,在水槽4的一端设置进水口6,在水槽4的底部设置排水口5。
本实用新型的工作原理是:风刀本体前方的辊轮下方加装长方体水槽,水槽一侧设置进水口,接入18兆欧纯水,液面高度淹没O型圈7底部2—3mm,水槽底部设置出水口,出水口通过细管道连接废水管道,通过辊轮转动,O型圈一直处于被流动的纯水浸泡润湿状态之中,这样O型圈表面的微尘和颗粒便被纯水洗落。一直处于流动状态且大于等于18兆欧的纯水经进水口6流进水槽4内,O型圈7底部2-3毫米浸在水槽4内的纯水中。这样,一方面润滑O型圈7,避免O型圈7在风刀本体2的风力吹刮作用下快速老化并开裂,另一方面输入18兆欧纯水将O型圈7表面的微尘洗落,减少轮印的产生。
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