[实用新型]双头激光蚀刻机

说明书

技术领域

本实用新型涉及激光切割技术领域，具体涉及一种双头激光蚀刻机。

背景技术

随着触摸屏及液晶显示屏行业的不断发展，对ITO薄膜基材性能需求的不断提高，对ITO薄膜的加工需求也越来越高。现有的蚀刻机为单头蚀刻机，即蚀刻机上仅设置一个切割头，一次只能对一件工件进行加工蚀刻，一般日产量只能达到10K左右（只刻蚀银浆）或5K左右（刻蚀银浆加ITO），产能瓶颈很突出，生产效率低不能满足企业要求。

发明内容

本实用新型的目的就是为了解决上述背景技术存在的不足，提供一种生产效率高、可同时对多个工件进行加工的双头激光蚀刻机。

本实用新型采用的技术方案是：一种双头激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示器、激光发生系统、振镜、真空吸附平台、CCD定位系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控机、显示器、激光发生系统、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统都安装在机架上；所述真空吸附平台由X轴运动系统、Y轴运动系统驱动，真空吸附平台上吸附有ITO薄膜；CCD定位系统固定在Z轴运动系统底部与工控机电连接，所述振镜包括第一振镜和第二振镜，第一振镜和第二振镜并排安装在Z轴运动系统上，位于真空吸附平台上方，第一振镜和第二振镜底部分别设有第一透镜和第二透镜。

进一步地，所述真空吸附平台固定在Y轴运动系统上，位于X轴运动系统的上方；所述Y轴运动系统安装在X轴运动系统上，并交叉呈十字状，X轴运动系统安装在机架上。

进一步地，所述机架上还设有抽尘装置，抽尘装置位于真空吸附平台与CCD定位系统之间。

更进一步地，所述Z轴运动系统的升降轴上固定有横连杆，第一振镜和第二振镜并排固定在横连杆两端。

本实用新型的双头激光蚀刻机相对于现有蚀刻机，增加了一套振镜、激光设备，可同时对两件工件进行加工蚀刻，提高了ITO薄膜刻线的生产效率。采用CCD定位系统确定工件打标的位置，工件只需一次定位就可以完成全部工作，影响产品质量因素少，易于控制。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1中A处的放大示意图。

其中：1—机架；2—工控机；3—罩壳；4—键盘；5—电气控制；6—显示器；7—第一透镜；8—第一振镜；9—Z轴运动系统；10—第二振镜；11—第二透镜；12—CCD定位系统；13—激光发生系统；14—大理石组件；15—抽尘装置；16—ITO薄膜；17—真空吸附平台；18—Y轴运动系统；19—X轴运动系统；20—可调整脚轮。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明，便于清楚地了解本实用新型，但它们不对本实用新型构成限定。

如图1、图2所示，本实用新型包括机架1、工控机2、显示器6、激光发生系统13、振镜、真空吸附平台17、CCD定位系统12、Y轴运动系统18、X轴运动系统19和Z轴运动系统9，所述工控机2、显示器6、激光发生系统13、Y轴运动系统18、X轴运动系统19和Z轴运动系统9都安装在机架1上。真空吸附平台17固定在Y轴运动系统18上，位于X轴运动系统19的上方；Y轴运动系统18安装在X轴运动系统19上，并交叉呈十字状，X轴运动系统19安装在机架1上。真空吸附平台17由Y轴运动系统18和X轴运动系统19驱动左右或前后移动，真空吸附平台17上吸附有ITO薄膜16。CCD定位系统12固定在Z轴运动系统9底部与工控机2电连接，并通过显示器6显示，位于真空吸附平台17上方，由工控机2控制CCD定位系统12捕捉ITO薄膜16上的定位点对待刻工件进行定位。所述振镜包括第一振镜8和第二振镜10，第一振镜8和第二振镜10并排安装在Z轴运动系统9上。Z轴运动系统9的升降轴上固定有横连杆9.1，第一振镜8和第二振镜10并排固定在横连杆9.1两端，第一振镜8和第二振镜10底部分别设有第一透镜7和第二透镜11。机架1上还设有抽尘装置15，抽尘装置15位于真空吸附平台17与CCD定位系统12之间。

本实用新型通过键盘4在显示器6中设置需要的激光刻蚀图形，将裁减好的工件放到真空吸附平台17上，通过CCD定位系统12捕捉ITO薄膜16上的定位点对工件进行定位。上料时，工件放置好后经工控机2控制真空吸附平台17成吸附状态，便于工件切割时不移位；下料时，工作台面的真空吸附平台17由真空吸附切换到压缩气体反吹浮起工件，并回到上料位置，便于工件下料。机架1结构采用大理石组件14组装，在机架1的底部安装可调整脚轮20，方便机架1调整搬动。