[实用新型]清洗盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及电子行业手机模组产品的清洗工具，尤其是一种清洗盘。 

背景技术

目前手机模组生产过程中对颗粒、粉尘（particle）的控制要求很高，颗粒会引起模组在拍摄过程中形成“黑点”，故不能存在“黑点”是基本的要求，所以手机模组产品在生产中有使用到纯水清洗的工艺，在手机模组组装之前需要将产品进行清洗及将芯片表面存在的颗粒进行清除的作业，所以清洗的洁净程度决定着产品的良率走向。 

目前最常用的方式是使用二流体方式进行离心清洗，而使用同面清洗盘清洗产品时所清除掉的颗粒会再次导致产品与产品之间的相互污染，需要通过对清洗盘的重新设计制作特针对此清洗机台发明新的清洗转盘，提升清洗的良率。 

发明内容

本实用新型提供一种清洗盘，所述清洗盘采用不同平面方式制作，在旋转过程中颗粒会在自身的平面通过离心的作用被甩出，而不会对其他的平面造成影响，其技术方案如下所述： 

所述清洗盘的清洗盘面包括两个以上的清洗平面，所述相邻的清洗平面间存在角度。 

所述清洗平面的形状和大小一致，所述清洗平面设置有放置产品的定位销，所述清洗平面设置有固定产品的卡销。 

进一步的，所述清洗平面为4个。 

本实用新型提供的清洗盘在清洗时，使得在同一个清洗平面内，产品与产品之间的颗粒不会存在相互之间的影响，在不同清洗平面内的产品与产品之间的颗粒不会存在相互之间的影响。 

附图说明

图1是本实用新型提供的清洗盘的清洗正面示意图； 

图2是本实用新型提供的清洗盘的清洗侧面示意图； 

图3是本实用新型提供的清洗盘的实施例示意图； 

图4是清洗效果比照示意图。 

具体实施方式

目前的清洗盘在清洗时，会使得清洗后的污染物平面相互影响，颗粒物21附着在清洗盘的边缘。 

如图1至图3，图3是本实用新型提供的清洗盘的实施例示意图，所述清洗盘的清洗盘面包括四个等同的清洗平面1，所述清洗平面1设置有放置产品4的定位销2和固定产品4的卡销3，产品4放置沿着清洗平面1形成倾斜，定位销2用作于产品4的固定放置位置，保证每个面的负重相等，卡销3用作于固定产品4，防止清洗盘在高速旋转时产品4被甩出。 

图1和图2中，清洗平面间存在一定角度，这样在清洗时便于清水受重力影响更容易被甩出。这样附着在清洗平面1上的颗粒物21被冲洗掉，使得清洗良率提升。 

图4是清洗效果比照示意图，经过本实用新型的改善后，整体的清洗良率提升了2.1%，如图所示，对于颗粒物，M1曲线代表改善后的可粘比例，M2曲线代表改善后的不可粘比例，M3曲线代表改善前的可粘比例，M4曲线代表改善前的不可粘比例。 

清洗良率提升使得后道组测黑点比率降低，减少了损金和返修费用，经过清洗良率的提升，节约大量的资金，同时，清洗良率的提升会减少CCD 上线检验人员检验工时，减少人工费用。