[实用新型]一种碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置有效
| 申请号： | 201320122684.3 | 申请日： | 2013-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN203299036U | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 刘霞;尤瑜升;吴立军;柳鸿超;王爱萍;鲁毅;郭国建 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业集团第五三研究所 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人： | 苗峻 |
| 地址： | 250031 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 游离 二氧化硅 溶解 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，由反应器（1）、水浴槽（2）、加热装置（3）和搅拌装置组成，其特征在于：反应器（1）为密闭聚四氟乙烯容器，置于水浴槽（2）中。
2.根据权利要求1的碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，其特征在于：所述搅拌装置为磁力搅拌装置。
3.根据权利要求1所述的碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，其特征在于：所述加热装置带定时装置。
4.根据权利要求1所述的碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，其特征在于：所述加热装置（1）和搅拌装置为一体结构。
5.根据权利要求1~4所述的碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，其特征在于：还有反应器固定装置（5）。
6.根据权利要求1~4所述的碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，其特征在于：水浴槽（2）带水浴槽盖（4），水浴槽盖（4）上有反应器固定装置（5）。
7.根据权利要求1~4所述的碳化硅中游离硅及二氧化硅溶解装置，其特征在于：所述搅拌装置的搅拌翅（6）表面包覆聚四氟乙烯。
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