[实用新型]一种用于高速水流泄洪洞进水口的消涡结构有效

专利信息
申请号: 201320123302.9 申请日: 2013-03-18
公开(公告)号: CN203144982U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 蒙富强;游湘;张旻;郑小玉;刘平禄;李旭东;鲁毅;童建文 申请(专利权)人: 中国水电顾问集团成都勘测设计研究院
主分类号: E02B8/06 分类号: E02B8/06
代理公司: 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 代理人: 刘世平
地址: 610072 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 高速 水流 泄洪 进水 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种消涡结构,尤其是涉及一种用于高速水流泄洪洞进水口的消涡结构,属于水工建筑物设计技术领域。

背景技术

在高速水流泄洪洞进水口前由于边界条件等原因经常会出现漩涡。进水口前形成贯通吸气漏斗漩涡后会吸入水面漂浮物,降低进流量,恶化洞内水流流态,引起建筑物破坏并影响周围建筑物的安全,因此,必要时须根据进水口布置及地形特点,寻求消除漩涡的有效措施。一般情况下,通过修建专门的建筑物或安装专门的结构物来消除进水口漩涡是比较常用的方法。目前常见的处理方式是在进水口上方设置消涡板或消涡梁消涡。消涡梁或消涡板在进水口上方的布置高程一般较高,当进水口水位变幅较大,进水口漩涡运动范围较大时,消涡梁或消涡板的结构就变得较为复杂,稳定设计及施工难度特点大,且只能保证在消涡梁或消涡板影响范围内起到消除漩涡的作用,而随着水位降低,当消涡梁或消涡板无法影响水流时,则起不到消涡的作用。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种施工难度小,又不受水位高低的影响的用于高速水流泄洪洞进水口的消涡结构。

为解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种用于高速水流泄洪洞进水口的消涡结构,包括设置有进水口的泄洪洞进水塔,还包括消涡墙,所述消涡墙呈倒八字型的布置在所述进水口两侧的泄洪洞进水塔的前端。

进一步的是,在所述消涡墙上还设置有贯穿墙体的透水孔。

进一步的是,每一侧的所述消涡墙的横截面均呈上小下大的半塔形结构。

本实用新型的有益效果是:通过在进水口两侧的泄洪洞进水塔的前端设置呈倒八字型布置的消涡墙,这样,当水流流入泄洪洞进水口时,所述的消涡墙可以有效的改变进水口水流流场的分布,影响漩涡的形成、发展,起到破坏、消除漩涡的作用。由于所述的消涡墙的呈倒八字型布置在所述进水口两侧的泄洪洞进水塔的前端,这样,在施工时,由于消涡墙墙体从地基面上开始施工,不像布置在进水口上方的消涡梁或消涡板那样属于高空作业,从而大大的降低了施工的难度。同时,由于所述的消涡墙是从地基面上开始设置的,所以在使用中,不管水位高低均能起到消除漩涡的作用,不会受到水位高低的影响。

附图说明

图1为本实用新型一种用于高速水流泄洪洞进水口的消涡结构的平面布置图;

图2为图1的A-A剖视图;

图3为图1的B-B剖视图。

图中标记为:进水口1、泄洪洞进水塔2、消涡墙3、透水孔4。

具体实施方式

如图1、图2以及图3所示是本实用新型提供的一种施工难度小,又不受水位高低的影响的用于高速水流泄洪洞进水口的消涡结构。所述消涡结构包括设置有进水口1的泄洪洞进水塔2,还包括消涡墙3,所述消涡墙3呈倒八字型的布置在所述进水口1两侧的泄洪洞进水塔2的前端。上述通过在进水口1两侧的泄洪洞进水塔2的前端设置呈倒八字型布置的消涡墙3,这样,当水流流入泄洪洞进水口1时,所述的消涡墙3可以有效的改变进水口水流流场的分布,影响漩涡的形成、发展,起到破坏、消除漩涡的作用。由于所述的消涡墙3的呈倒八字型布置在所述进水口1两侧的泄洪洞进水塔2的前端,这样,在施工时,由于消涡墙3墙体从地基面上开始施工,不像布置在进水口1上方的消涡梁或消涡板那样属于高空作业,从而大大的降低了施工的难度。同时,由于所述的消涡墙3是从地基面上开始设置的,所以在使用中,不管水位高低均能起到消除漩涡的作用,不会受到水位高低的影响。

上述实施方式中,为了保证消涡墙3迎水面和背水面的水位平衡,降低对消涡墙3的强度要求,在所述消涡墙3上还设置有贯穿墙体的透水孔4。这样,当迎水面的水位高于背水面的水位时,便可通所述的透水孔4保证消涡墙3迎水面和背水面的水位平衡。同时,由于随着水位的升高水的压力会越来越大,为了保证消涡墙3在设计的高度具有相应的强度,而又最大限度的节约建造成本,每一侧所述消涡墙3的横截面均呈上小下大的半塔形结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国水电顾问集团成都勘测设计研究院,未经中国水电顾问集团成都勘测设计研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320123302.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top