[实用新型]薄膜厚度传感器和蒸镀设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及蒸镀工艺技术领域，尤其涉及一种薄膜厚度传感器和蒸镀设备。

背景技术

目前，蒸镀工艺广泛应用于各种产品的制造中，蒸镀是在真空中将待成膜的物质进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出形成薄膜的过程。例如，有机发光二极管（Organic Light-Emitting Diode，OLED）显示器件的制作过程中，需要蒸镀多层有机材料薄膜。在蒸镀的过程中，需要使用薄膜厚度传感器实时检测薄膜的厚度并计算出蒸发速率，从而对蒸发进行控制。具体地，薄膜厚度传感器中设置有晶体振子，由于晶体具有谐振频率随其质量变化的特性，在蒸镀过程中晶体振子谐振频率的变化反映了晶体振子上薄膜厚度的变化，因此检测晶体振子的谐振频率即可得到薄膜厚度，同时可以根据薄膜厚度的变化计算出蒸发速率。

然而，如图1所示，现有的薄膜厚度传感器1只能检测某一个方向上的蒸发源2形成的薄膜厚度，在具有多个蒸发源2时，需要使用多个薄膜厚度传感器1，从而增加了成本。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种薄膜厚度传感器和蒸镀设备，实现一个薄膜厚度传感器检测多个蒸发源蒸镀形成的薄膜厚度，从而降低了成本。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一方面，提供一种薄膜厚度传感器，用于蒸镀工艺中薄膜厚度的检测，包括：

至少两个导向管，每个所述导向管的第一端位于同一位置，每个所述导向管的第二端分别朝向不同方向；

所述导向管的第一端处设置有晶体振子和用于检测所述晶体振子谐振频率的检测装置；

或者，每个所述导向管中设置有晶体振子，所述导向管的第一端处设置有用于检测每个所述导向管中晶体振子谐振频率的检测装置。

具体地，还包括与所述检测装置电连接的用于根据所述晶体振子谐振频率计算获得薄膜厚度或蒸发速率的处理器。

具体地，还包括与所述处理器电连接的显示装置。

可选地，所述显示装置为显示多组数字的数字显示器，所述数字显示器所显示的数字组数与所述导向管的数量相等；

每组所述数字用于分别显示根据每个所述导向管中晶体振子谐振频率获得的薄膜厚度或蒸发速率。

可选地，所述显示装置为带有刻度的表盘显示器。

具体地，所述表盘显示器中的表盘分为多个显示区域，所述表盘显示器中的显示区域的数量与所述导向管的数量相等；

每个所述显示区域用于分别显示根据每个所述导向管中晶体振子谐振频率获得的薄膜厚度或蒸发速率。

另一方面，提供一种蒸镀设备，包括：

上述的薄膜厚度传感器；

多个蒸发源；

在所述薄膜厚度传感器中，每个导向管的第二端分别朝向每个所述蒸发源。

本实用新型提供的薄膜厚度传感器和蒸镀设备，通过在薄膜厚度传感器中设置多个朝向不同的导向管，使得只需要使用一个检测装置即可检测不同方向上的多个蒸发源蒸镀形成的薄膜厚度和蒸发速率，即实现了一个薄膜厚度传感器检测多个蒸发源蒸镀形成的薄膜厚度，从而降低了成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中蒸镀设备的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中一种蒸镀设备的结构示意图；

图3为本实用新型实施例中一种数字显示器的示意图；

图4为本实用新型实施例中一种表盘显示器的示意图；

图5为本实用新型实施例中另一种蒸镀设备的结构示意图；

图6为本实用新型实施例中一种蒸镀设备的侧视图；

图7为图6中蒸镀设备的俯视图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

如图2所示，本实用新型实施例提供了一种薄膜厚度传感器1，用于蒸镀工艺中薄膜厚度的检测，包括：至少两个导向管11，每个导向管11的第一端位于同一位置，每个导向管11的第二端分别朝向不同方向；每个导向管11中分别设置有晶体振子12；导向管11的第一端处设置有用于分别检测每个导向管11中晶体振子12谐振频率的检测装置13。