[实用新型]一种掩膜板清洁装置有效

专利信息
申请号: 201320143056.3 申请日: 2013-03-27
公开(公告)号: CN203170641U 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 康玉龙;隆清德;彭川 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B7/04 分类号: B08B7/04
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜板 清洁 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及掩膜板清洁技术领域,尤其涉及一种掩膜板清洁装置。

背景技术

目前,在液晶面板的制造过程中,对各个膜层进行构图工艺时,需要用到各种掩膜板。例如在制备液晶面板中彩膜基板的彩色滤光片时,会采用接近式曝光工艺,将掩膜板近距离的放置于彩膜基板的衬底基板的上方,然后对衬底基板上涂覆的光刻胶进行曝光显影工艺。在此过程中,掩膜板容易受到衬底基板表面涂布的光刻胶的污染,并且暴露在空气中的掩膜板不可避免的会沾上周围空气中的粉尘颗粒。而如果使用被污染的掩膜板进行曝光显影工艺,会在与掩膜板污染处对应的位置引发严重的共同缺陷问题。因此,在每次使用掩膜板后都需要对其进行清洁操作。

现有的掩膜板清洁设备是将掩膜板固定在水平转盘上,水平转盘高速自转带动掩膜板转动,在掩膜板旋转的情况下,对水平放置的掩膜板的上表面进行清洁与干燥等操作。然后通过翻转部件,将掩膜板进行180度的翻面,将掩膜板未清洁的背面翻转到上面重复进行清洁与干燥等操作。

现有的掩膜板清洁设备存在以下缺点:

首先,由于水平放置的掩膜板在清洁过程中,上表面的污染物不可避免地会流向下表面,造成交叉污染,影响了掩膜板的清洁效果。并且,在掩膜板清洁的过程中,由于掩膜板一直处于水平放置的状态,周围环境中的粉尘颗粒很容易再次掉落到掩膜板的上表面,造成二次污染,从而影响掩膜板的清洁效果。另外,对掩膜板的翻面操作,也会耗费掩膜板的清洁时间,降低掩膜板的清洁效率。而且,在现有的清洁掩膜板过程中,需要采用旋转结构和对应的保护装置,带动掩膜板高速转动,这也增加了掩膜板清洁装置的结构的复杂程度,增加了装置的制作成本。

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种掩膜板清洁装置,用以实现高清洁度且高效率地清洁掩膜板。

本实用新型实施例提供的一种掩膜板清洁装置,包括:

固定掩膜板且使所述掩膜板可竖直放置的翻转部件;

以及,对竖直放置的掩膜板的表面进行清洁的清洁部件。

进一步地,所述翻转部件包括:

至少一对固定所述掩膜板的夹紧部件;

以及,将固定后的所述掩膜板在水平放置与竖直放置之间调整的旋转部件。

进一步地,所述清洁部件包括:

内部形成清洁腔的壳体,在所述清洁腔内设置有掩膜板放置区域;

以及位于所述清洁腔内且安装于所述壳体的成对设置的至少一对喷淋部件,每对喷淋部件分别位于掩膜板放置区域的两侧且相对而置。

进一步地,所述喷淋部件为一对,各喷淋部件可沿竖直方向滑动的安装于所述壳体;

各喷淋部件的工作行程不小于掩膜板放置区域的高度,各喷淋部件的宽度不小于掩膜板放置区域的宽度。

进一步地,所述清洁部件还包括:位于所述清洁腔内且安装于所述壳体的成对设置的至少一对毛刷部件,每对毛刷部件分别位于掩膜板放置区域的两侧且相对而置。

进一步地,所述毛刷部件为一对,各毛刷部件可沿竖直方向滑动的安装于所述壳体;

各毛刷部件的工作行程不小于掩膜板放置区域的高度,各毛刷部件的宽度不小于掩膜板放置区域的宽度。

进一步地,各毛刷部件转速相同且转动方向相反。

进一步地,所述清洁部件还包括:位于所述清洁腔内且安装于所述壳体的成对设置的至少一对风刀部件,每对风刀部件分别位于掩膜板放置区域的两侧且相对而置。

进一步地,所述风刀部件为一对,各风刀部件可沿竖直方向滑动的安装于所述壳体;

各风刀部件的工作行程不小于掩膜板放置区域的高度,各风刀部件的宽度不小于掩膜板放置区域的宽度。

进一步地,各风刀部件的气体喷射口的延伸方向与水平方向具有预设夹角。

本实用新型实施例的有益效果包括:

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