[实用新型]一种研磨抛光设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种机械设备，特别涉及一种对产品表面进行研磨抛光的研磨抛光设备。

背景技术

目前，公知的在佛珠木珠加工后所有的珠子均由人力抛光，通过抛光设备进行研磨抛光处理的极其有限。首先，因为现有的抛光设备的容器内最大只可抛光到25MM大小的球珠，所以抛光球珠的大小受到容器限制；其次，在球珠抛光过程中上盖在运转时间较长的情况下容易飞出，造成人员伤亡；最后，抛光设备极其昂贵，应用受到限制。

综上，现有人力抛光佛珠木珠等球珠的耗时性、现有抛光设备的局限性和安全性，给广大爱好者带来困扰，并且极大的增加了爱好的购买成本。

那么，如何提供一种研磨抛光设备成为亟待解决的问题。

发明内容

本实用新型解决的问题是如何提供一种研磨抛光设备，能够克服研磨抛光的延时性、局限性以及安全性。

本实用新型一种研磨抛光设备，包括：底座、调速电机、球珠容器、垫板和压盖；其中，所述底座包括：定位板，所述定位板下端垂直所述底座顶部，并与所述底座侧面固定，所述定位板的上端具有定位凹槽；所述调速电机固定于所述底座内，且所述调速电机的主动轴伸出于所述底座顶部；所述球珠容器，通过设置的中心孔与所述主动轴连接，且所述球珠容器的外壁到内壁之间的距离不等；所述垫板与所述球珠容器底部相匹配，并铺设在所述球珠容器内的底部；所述压盖，设置有与所述定位凹槽相配合的定位件，通过所述定位件与所述定位凹槽的配合，将所述压盖覆盖于所述球珠容器上，并将所述压盖固定于所述底座上。

优选地，球珠容器为环状容器，外环内壁与内环外壁之间具有容纳空间，所述中心孔位于所述环状容器外环的中心点上。

优选地，本实用新型进一步包括：缓冲垫，位于所述球珠容器上方，并与所述球珠容器相匹配。

优选地，本实用新型进一步包括：研磨层，位于所述压盖下方或所述缓冲垫下方。

优选地，所述缓冲垫的材质是橡胶或塑料，所述研磨层为砂纸。

优选地，所述压盖上设置有与所述主动轴配合的轴承。

优选地，本实用新型中所述底座进一步包括：调节所述主动轴转向的正反转开关。

优选地，本实用新型中所述底座进一步包括：调节所述调速电机的调速开关。

优选地，本实用新型中所述底座进一步包括：便于移动研磨抛光设备的把手。

优选地，本实用新型中所述底座进一步包括：缓冲减震地脚，相对设置于所述底座下方边缘。

本实用新型提供的一种研磨抛光设备，可以通过球珠容器对各种材质球状物体进行抛光的同时，由于球珠容器5内壁53到外壁52之间距离不同，也就是说内壁53到中心孔51的距离与外壁52到中心孔51的距离不相同，因此使得球珠容器壁的重量不等，在主动轴的传动下，球珠容器还可以由于容器壁的厚度不同而实现甩动力，进而使球珠100会在球珠容器5内可以进行自身旋转，已达到对球珠容器5内球珠100进行全面抛光；，并且，通过铺设在所述球珠容器内的底部的垫板，可以调整球珠的高度，从而无需更换球珠容器，降低了成本。另外，通过压盖定位于所述底座上，进而避免了意外的发生，保证了安全。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例和现有技术中的技术方案，下面将对实施例和现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型提供的一种研磨抛光设备的结构示意图；

图2是本实用新型提供的一种研磨抛光设备球珠容器的示意图；

图3是本实用新型提供的一种研磨抛光设备球珠容器的剖视图；

图4是本实用新型提供的一种研磨抛光设备球珠容器的原理示意图。

具体实施方式

下面将接合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参考图1所示，图1是本实用新型提供的一种研磨抛光机的结构示意图。

本实用新型提供的一种研磨抛光设备，包括：底座1、调速电机2、球珠容器5和压盖7；其中，所述底座1包括：定位板4，所述定位板4下端垂直所述底座1顶部，并与所述底座1侧面固定，所述定位板4的上端具有定位凹槽41；所述调速电机2固定于所述底座1内，且所述调速电机2的主动轴3伸出于所述底座1顶部；