[实用新型]一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置有效
| 申请号： | 201320149122.8 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203134754U | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 赵吾阳;蒋冬华;倪水滨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 装置 下部 电极 | ||
【权利要求书】：
1.一种干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，包括：电极底板，位于所述电极底板上的多个凸起；其中，每个所述凸起外表面具有多个向上的毛刺状结构。
2.如权利要求1所述的干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，所述凸起形状为半球形。
3.如权利要求1所述的干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，所述多个凸起在所述电极底板上呈阵列状分布。
4.如权利要求1所述的干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，所述多个凸起在所述电极底板上分成数个间隔距离相同的第一凸起组，每个所述第一凸起组包括两排凸起。
5.如权利要求1所述的干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，所述多个凸起分成两个第二凸起组，每个所述第二凸起组包括两排凸起，且所述两个第二凸起组十字交叉排列。
6.如权利要求1-5任一所述的干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，所述电极底板为铝电极基板，所述凸起为陶瓷凸起。
7.一种干刻蚀装置，其特征在于，包括：如权利要求1-6任一所述的干刻蚀装置的下部电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320149122.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：玻壳封管装填模板
- 下一篇：一种真空负荷开关锁存装置
