[实用新型]工作平台的平行度运作机构

说明书

技术领域

本实用新型是与平台的升降机构有关，特别是指一种可任意调整平台的水平角度及高度的运作机构。 

背景技术

中国台湾新型第568349号专利揭露一种用于奈米转印之平行度调整装置，其包括一转印单元、一承载单元、一平行度调整机构及一驱动源。该驱动源用以驱动该转印单元与承载单元之其中至少一者,以令该转印单元的转印用模具与该承载单元上的基板接触而进行转印,并藉其接触使该平行度调整机构受压,而调整该转印用模具与该基板间的转印平行度。该平行度调整机构包括一弹性膜及封装于该弹性膜内的流体，如此，就可以利用弹性膜来调整该基板的平行度。但是，由于该专利是利用密闭弹性膜及流体的受压，而被动地进行平行度补偿，因此，该专利不能主动且快速地调整该基板的平行度，且，密闭弹性膜及流体在未受压时，该专利无法调整该基板的平行度。 

中国台湾发明第500973号揭露近接式曝光之光罩与工件之间隙控制方法及近接式曝光装置，该近接式曝光装置是利用移动第一移动机构，使工件载置台接近光罩，再藉由间隙测定机构测定间隙量，并利用第二移动机构控制工件载置台的倾斜与升降。但是，该工件载置台仅能升降移动，而无法进行其它方向的运作。 

为了改善上述的缺失，本实用新型提供能主动且进行多角度调整基板平行度的平行度运作机构。 

发明内容

本实用新型的工作平台的平行度运作机构包括一平台及一运作装置。该平台具有一第一穿孔。该运作装置用以升降该平台，且包括一底座、一从定位柱、三升降模组及一平面校正模组。该底座正对该平台，且具有前、后、左及右侧边。该从定位柱固设于该底座上，且邻近该底座的右侧边，并从该定位柱穿过该平台的第一穿孔。该数个升降模组具有一驱动单元、一螺杆及一支撑单元。该驱动单元连接该螺杆，且用以驱动该螺杆。该支撑单元设于该螺杆上，且随该螺杆转动而相对该螺杆移动。该数个支撑单元分别用以支撑该平台。该平面校正模组设于该底座上，且邻近该底座的左侧边，并正对该从定位柱。该平面校正模组具有一轨道及滑设于该轨道的一校正单元。该校正单元连接于该平台上。如此，本实用新型的工作平台运作机构即可藉由该数个升降模组的运作，而将该平台升起或降下，再者，该平台的第一穿孔、该从定位柱及该平面校正模组是供调整该平台的水平角度。 

较佳地，该校正单元包括一支撑架及一球轴承。该球轴承固设于该支撑架上，且可相对该支撑架转动。其中，该平台连接该球轴承。表示，该平台可利用该球轴承而相对该支撑架作倾斜的转动。 

较佳地，每一支撑单元具有一支撑部、一钢珠、承接部及至少两弹簧。该钢珠设于该支撑部及该承接部之间。该承接部支撑该平台且可藉由该钢珠而相对该支撑部摆动。每一弹簧的两端分别连接该支撑部及该承接部。如此，该数个支撑单元就可顺应该平台的摆动而自由调整。 

附图说明

图1是本实用新型的一较佳实施例的压印系统的立体图。 

图2是图1中压印系统的正视图。 

图3是图1中工作平台的平行度运作机构的立体图。 

图4是图3中工作平台的平行度运作机构的正视图。 

图5是图3中平台、从定位柱及平面效正模组的立体图。 

图6是图5中平台、从定位柱及平面效正模组的正视图。 

图7是图5中平台、从定位柱及平面效正模组的爆炸图。 

图8是图5中平台及从定位柱的作动示意图。 

图9是图4中升降模组及平台的局部放大图。 

图10是图9中升降模组的支撑单元的爆炸图。 

具体实施方式

如图1及图2所示，该压印系统10包括一压合机构20及一工作平台的平行度运作机构30，该压合机构20设于该工作平台的平行度运作机构30上。该压合机构20包括一压印装置21及一基板承载装置23。该压印装置21可随该工作平台的平行度运作机构30作动，而向上升起。该基板承载装置23被固定于该工作平台的平行度运作机构30上，且用以承载一基板。如此，当该工作平台的平行度运作机构30开始作动时，该压印装置21就可被升起至完整平行抵靠该基板承载装置23的位置，或降下至远离该基板承载装置23。