[实用新型]一种晶圆测试自动传输系统有效
申请号: | 201320176087.9 | 申请日: | 2013-04-10 |
公开(公告)号: | CN203300618U | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 仲高艳;张在春 | 申请(专利权)人: | 南京农业大学 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210095 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测试 自动 传输 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种自动传输系统,尤其是涉及一种应用于晶圆测试的自动传输系统。它属于半导体设备技术领域。
背景技术
晶圆测试是芯片制造产业中一个重要环节,晶圆自动传输系统是晶圆测试系统的重要组成部分,其功能是实现晶圆在不同工位之间快速、高效、可靠地转移,它直接体现出测试系统的自动化程度,效率、可靠性。随着晶圆的生产产量不断增加,要求晶圆的生产及测试向着高速、连续化生产方式发展,这必须由高速度、高精度、高效率的晶圆自动传输系统来实现。在进行晶圆传输时,由于需要在有限的空间内实现晶圆工位之间的快速转换,因此对自动传输系统的运动特性、反应灵敏度、动作准确性以及工作稳定性、可靠性、效率等方面都提出了较高的要求。随着集成电路芯片在越来越多领域得到应用,晶圆片尺寸越来越大,厚度越来越薄。国内外现有晶圆测试自动传输系统广泛采用U型传输机械手进行晶圆传输,用这样的U型传输机械手进行传输时,当晶圆片厚度在180um以下时,就有可能造成晶圆薄片变形量过大,严重时将会和晶圆测试设备发生干涉,造成损坏,不能适应晶圆薄片的传输要求,并且现有的晶圆测试自动传输系统,由于采用单片盒机构,需要停机更换片盒,导致辅助时间增加,影响了测试系统的工作效率。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型的目的是提供一种晶圆薄片在传输过程中不易形变,工作效率高的自动传输系统,用于晶圆薄片在不同工位之间快速、高效、可靠地转移。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:一种晶圆测试自动传输系统,由转动台2、传输机械手3、左升降机构5、右升降机构1、左承载台4、右承载台8、左晶圆片盒6、右晶圆片盒7、底座9组成,在底座9上组装由电机驱动的转动台2,在转动台2上组装由电机驱动的传输机械手3,在转动台2的两旁分别组装由电机驱动的左升降机构5和右升降机构1,左承载台4与左升降机构5固联,右承载台8与右升降机构1固联,在左承载台4上安装左晶圆片盒6,在右承载台8上安装右晶圆片盒7,其特征是所述的传输机械手3的端部为O型结构10,所述的左晶圆片盒6和所述的右晶圆片盒7以转动台2的回转中心对称布置。
作为优选的技术方案,其特征是所述传输机械手3由上机械手3-I和下机械手3-II组成。
作为优选的技术方案,其特征是所述传输机械手3的端部O型结构10的上表面至少有四个真空吸附孔11与真空通道12相通。
本实用新型的有益效果是:晶圆薄片传输过程中不易形变,采用中心对称布局的双片盒晶圆测试自动传输系统结构紧凑,无需停机更换片盒,提高了测试系统的工作效率。
附图说明
图1是本实用新型整体结构示意图。
图2是上机械手结构示意图。
图3是下机械手结构示意图。
附图中的零部件序号如下:右升降机构1、转动台2、传输机械手3、上机械手3-I、下机械手3-II、左承载台4、左升降机构5、左晶圆片盒6、右晶圆片盒7、右承载台8、底座9、O型结构10、真空吸附孔11、真空通道12、连接孔13、真空相通孔14。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型作进一步地说明:
如图1-图3所示,本实用新型由转动台2、传输机械手3、左升降机构5、右升降机构1、左承载台4、右承载台8、左晶圆片盒6、右晶圆片盒7、底座9组成,在底座9上组装由电机驱动的转动台2,在转动台2上组装由电机驱动的传输机械手3,在转动台2的两旁分别组装由电机驱动的左升降机构5和右升降机构1,左承载台4与左升降机构5固联,右承载台8与右升降机构1固联,在左承载台4上安装左晶圆片盒6,在右承载台8上安装右晶圆片盒7。所述的左晶圆片盒6和所述的右晶圆片盒7以转动台2的回转中心对称布置。
传输机械手3由上机械手3-I和下机械手3-II组成。传输机械手3的端部为O型结构10,O型结构尺寸大小可根据晶圆片尺寸和测试台结构确定,上表面至少有四个真空吸附孔11与真空通道12相通,尾部至少有四个连接孔13与机械臂相连,并通过真空相通孔14与机械臂真空通道相通。晶圆片在传输过程中,通过传输机械手3的端部O型结构上的至少四个真空吸附孔11的吸附作用,晶圆不易形变,特别适用于晶圆薄片传输。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造