[实用新型]玻璃CNC加工工作台有效
申请号: | 201320191020.2 | 申请日: | 2013-04-16 |
公开(公告)号: | CN203256124U | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 李清铭;钟享道;李世合 | 申请(专利权)人: | 睿志达光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | C03B33/00 | 分类号: | C03B33/00;C03C19/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 曹玉平 |
地址: | 518109 广东省深圳市宝安区龙华街道东环*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 cnc 加工 工作台 | ||
技术领域:
本实用新型涉及加工设备技术领域,特指玻璃CNC加工工作台。
背景技术:
目前,玻璃盖板产品一般需要进行CNC加工处理以提高效果及效率,CNC加工处理时,将玻璃片放置在治具上,然后进行CNC钻孔及铣外形等加工。由于在加工过程中,玻璃产品必须固定,保证在加工过程中不能有任何的移动,且在加工中必须将产品需要加工的部位落空出来,其余未加工部分必须有实体支撑,如在加工时产品有移动时容易直接造成玻璃边缘崩边或破裂,且如果玻璃与其他物体接触太多或接触物体不光滑,则会对玻璃表面品质造成刮伤不良。但是利用现有的玻璃片治具加工时,无法将玻璃产品很好地固定在治具上,玻璃产品容易产生移动,容易直接造成玻璃边缘崩边或破裂。
实用新型内容:
本实用新型的目的就是针对现有技术存在的不足而提供一种能稳固吸附玻璃片、能够有效保护玻璃片、减少玻璃片崩边和刮伤的玻璃CNC加工工作台。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:玻璃CNC加工工作台,它包括有工作台板,工作台板上固定有吸附治具、定位块,定位块位于吸附治具周缘处,吸附治具内开设有吸气通道,吸附治具上端面开设有多条与吸气通道连通的吸气沟槽,多条吸气沟槽相互连通且均匀布满吸附治具上端面。
所述多条吸气沟槽平行分布。
所述吸气沟槽的深度为4~8mm。
所述吸附治具有两个。
所述吸附治具的材质为铝合金。
所述工作台板的四周均设有护板。
所述定位块侧边上开设有弧形槽。
所述工作台板上开设有多个安装孔,吸附治具通过螺丝与安装孔锁紧固定连接。
本实用新型有益效果在于:本实用新型提供的玻璃CNC加工工作台,它包括有工作台板,工作台板上固定有吸附治具、定位块,定位块位于吸附治具周缘处,吸附治具内开设有吸气通道,吸附治具上端面开设有多条与吸气通道连通的吸气沟槽,多条吸气沟槽相互连通且均匀布满吸附治具上端面,在玻璃加工使用时,吸附治具将玻璃支撑,吸气通道接到外部真空源后通过吸附治具上端面的吸气沟槽将玻璃稳固吸附于吸附治具上,保证加工时玻璃无任何的移动,能够有效保护玻璃片、减少玻璃片崩边和刮伤;其吸气沟槽部分,因相互之间有一定的间距,吸附治具上端面由吸气沟槽分隔开的各部分处在同一水平高度,保证玻璃在真空吸附时中间部分不至于凹陷,而使玻璃不会出现在真空吸附加工时变形而造成不良的状况,且每个吸气沟槽都相互连通,保证玻璃被吸附部分的真空度相同,保证加工时不会有其他不良状况的发生。
附图说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型吸附治具的结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明,见图1~2所示,本实用新型包括有工作台板1,工作台板1上固定有两个吸附治具2、三个定位块3,定位块3位于吸附治具2周缘处,吸附治具2内开设有吸气通道21,吸附治具2上端面开设有多条与吸气通道21连通的吸气沟槽22,多条吸气沟槽22相互连通且均匀布满吸附治具2上端面,使真空系统与吸附治具2形成一个完整的整体。
多条吸气沟槽22平行分布,使得吸附更均匀。吸气沟槽22的深度为4~8mm。吸附治具2的材质为铝合金。
工作台板1的四周均设有护板4,防止加工时冷却液飞溅出去。定位块3侧边上开设有弧形槽31。工作台板1上开设有多个安装孔11,吸附治具2通过螺丝与安装孔11锁紧固定连接,可方便更换不同的吸附治具2以适应加工不同规格的产品。
在玻璃加工使用时,吸附治具2将玻璃支撑,吸气通道21接到外部真空源后通过吸附治具2上端面的吸气沟槽22将玻璃稳固吸附于吸附治具2上,保证加工时玻璃无任何的移动,能够有效保护玻璃片、减少玻璃片崩边和刮伤;其吸气沟槽22部分,因相互之间有一定的间距,吸附治具2上端面由吸气沟槽22分隔开的各部分处在同一水平高度,保证玻璃在真空吸附时中间部分不至于凹陷,而使玻璃不会出现在真空吸附加工时变形而造成不良的状况,且每个吸气沟槽22都相互连通,保证玻璃被吸附部分的真空度相同,保证加工时不会有其他不良状况的发生。
当然,以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。
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