[实用新型]兰科植物立体多层栽培装置有效

专利信息
申请号: 201320200269.5 申请日: 2013-04-19
公开(公告)号: CN203233840U 公开(公告)日: 2013-10-16
发明(设计)人: 杨旺利;杨华贵 申请(专利权)人: 宁德市山川农业科技有限公司
主分类号: A01G31/06 分类号: A01G31/06;A01G13/10
代理公司: 福州市鼓楼区鼎兴专利代理事务所(普通合伙) 35217 代理人: 傅契克
地址: 355000 福建省宁德市福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 兰科 植物 立体 多层 栽培 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及植物栽培领域,特别是一种适用于栽种铁皮石斛、霍山石斛、金钗石斛、石仙桃等兰科附生植物的兰科植物立体多层栽培装置,它可置于大棚内、树林中或简易搭设的棚架中。

背景技术

石斛属植物为亚热带附生植物,其大多生长在亚热带、湿度较大、并有充足散射光的深山老林中,且附生于疏松且厚的树干或树枝上,或生长于林中的山岩石缝或石槽间。石斛是一种常用的名贵中药材,具有很高的药用价值,但长期以来,药用石斛主要依靠采收野生品种,而由于过度采挖,致使野生资源严重枯竭,濒临绝迹。

目前国家已将野生铁皮石斛等列为重点保护的野生药材植物,为了切实有效地保护石斛属植物资源,数十年来,不少科研人员、专家等不断研究探索石斛的人工种植方法,目前已知的常规培育方法有:采用大田棚内畦地种植、或架设平面种植床培育等方式,这种培育技术普遍存在设施及土地利用率低、产量低等问题。虽然有的地方也采用其它方法:即尽量能仿野生石斛生物学特性的培育方法,例如:①贴树栽植法-是指直接将石斛苗绑扎缠绕于树干进行栽培;②贴石栽植法-在石块或固体墙体上凿出凹穴,将石斛苗栽植于凹穴中。贴树栽植法主要存在生长缓慢、成活率低等问题,而且因为农户拥有能适合石斛苗生长且湿度较大的林木树干的场地不多,因此难以达到丰产的目的。贴石栽植法则存在设施造价高、利用率低等问题,丰产稳产的种植效果更难以理想化。

本实用新型申请人的发明人之前曾申请了一种名称为“药用石斛柱状立体栽培新方法及栽培装置”的中国发明专利,该发明专利模仿野生石斛在树干上附着生长的习性,提供了一种既类似贴树栽培法的新的立式种植方式,又有别于贴树栽培法,将用于栽培石斛的附主由自然生长的树干变成内部填充树皮等培育基质的空心柱状体,将石斛苗栽种于空心柱状体侧壁开设的植苗穴中,这样就不用受到场地和资源的限制,既能形成大规模化的栽培,又可大大提高栽培的成活率。但目前该装置仍存在需要改进的地方,如:(1)由于其栽培体是形成树干式的不能分割的整体式设计,因此栽培过程中,不便于对部分石斛进行移植;(2)由于其栽培体是形成树干式的不能分割的整体式设计,因此浇水施肥上不够方便;(3)由于其栽培体是形成树干式的不能分割的整体式设计,石斛的栽种高度位置难以调节更换,而栽种在不同高度位置上的石斛受光照、湿度等环境因素影响不同,会使生长发育有所不同,因此产品质量难以均衡。

发明内容

为了解决现有技术所存在的上述问题,本实用新型提供了一种兰科植物立体多层栽培装置,它不仅可根据石斛等兰科植物生长所需的光照、湿度及温度等环境要求,对石斛等兰科植物栽种的高度位置、水平角度位置进行及时调节,而且方便进行浇水施肥等栽培管理,有利于提高产品的质量和栽种效率。此外,根据需要,选择不同尺寸规格的立式栽培筒对石斛等兰科植物进行栽培,既可形成大规模的栽培基地或者立式的植物景观,又能将各节立式栽培筒作为盆栽物分别售卖,大大提高了市场开发应用的灵活性。

本实用新型的技术方案是这样构成的:一种兰科植物立体多层栽培装置,其特征在于:它包括两节以上自下而上叠加放置的立式栽培筒以及支撑于上下两节相邻的立式栽培筒之间的隔离架,所述立式栽培筒的筒体内腔为用来放置培养基质的培养料腔,立式栽培筒的筒体侧壁设有穿透筒体侧壁使培养料腔与外界连通的植苗穴。

所述的兰科植物立体多层栽培装置,它还包括支撑于上下两节相邻的立式栽培筒之间的隔离架。

栽种时,在培养料腔内放入由树皮、有机肥等组成的培养基质后,将各节立式栽培筒自下而上叠加放置好,通过植苗穴将栽种苗栽种入培养基质中,做好适宜的栽培管理。培育过程中,根据兰科植物生长所需的光照、温度及湿度等环境要求,及时调整各节立式栽培筒的上下高度位置及水平角度位置,使栽种在各节立式栽培筒上的兰科植物都能受到充足均衡的光照。通过隔离架,既可使上下两节相邻的立式栽培筒保持适当的间隔,又有利于自下而上的叠放。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁德市山川农业科技有限公司,未经宁德市山川农业科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320200269.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top