[实用新型]用于制备洁净、均匀化铂族合金的底注式坩埚有效
| 申请号： | 201320208279.3 | 申请日： | 2013-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN203249495U | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 吴保安;唐会毅;汪建胜;刘庆宾;李国纲;陈德茂;陈小军 | 申请（专利权）人： | 重庆材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | F27B14/10 | 分类号： | F27B14/10 |
| 代理公司： | 重庆志合专利事务所 50210 | 代理人： | 胡荣珲 |
| 地址： | 400707 重*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 制备 洁净 均匀 化铂族 合金 底注式 坩埚 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制备洁净、均匀化铂族合金的底注式坩埚，其特征在于：该底注式坩埚包括内坩埚和外坩埚，内坩埚和外坩埚的底部设置相互贯通的中心孔，内坩埚和外坩埚之间设置有填充物，内、外坩埚和填充物经打结后烧结成一个整体。
2.根据权利要求1所述的底注式坩埚，其特征在于：所述内坩埚和外坩埚的底部中心孔位于同一轴线上。
3.根据权利要求1所述的底注式坩埚，其特征在于：所述内坩埚底部中心孔的直径小于外坩埚底部中心孔的直径。
4.根据权利要求3所述的底注式坩埚，其特征在于：所述内坩埚底部中心孔的直径为1.0～3.0mm。
5.根据权利要求3所述的底注式坩埚，其特征在于：所述外坩埚底部中心孔的直径为6～15mm。
6.根据权利要求1所述的底注式坩埚，其特征在于：所述内坩埚和外坩埚采用氧化镁、氧化铝、氧化锆任意一种材料制备。
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