[实用新型]一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃。由该新型膜系的结构匹配使得玻璃的光学和热学性能达到最佳，且钢化处理前后颜色及低辐射稳定性好，属于无机非金属镀膜玻璃技术领域。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是在玻璃表面镀上可以反射热红外谱段光线的薄膜材料单质银层，以达到减少热红外传播、从而降低玻璃热辐射率、降低热损耗的目的。根据银层的数量可分为单银、双银和三银镀膜玻璃三种。三银镀膜玻璃具有更低的U值，其在降低热损耗方面具有更强的优势，但是由于膜层结构复杂，钢化前后其颜色及隔热性能稳定性不宜控制，所以目前通常采用先钢后镀的生产工艺，因而限制了三银产品的工艺选择性，本实用新型对三银产品的可钢问题进行了一定的探索，提出了解决方案。

实用新型内容

本实用新型提供了一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，以解决目前三银产品不能钢化的问题。本产品钢化前后颜色及隔热性能稳定，工艺选择性更加优良，可满足大批量整板生产。

本实用新型的技术方案如下：

一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，在玻璃基片上设有镀膜，其特征在于：所述镀膜的膜层结构由玻璃基片向外依次为：第一电介质层、复合吸收层、第一银层、第一保护层、第一复合电介质层、第二银层、第二保护层、第二复合电介质层、第三银层、第三保护层、第三复合电介质层和顶层保护层。

如上所述，第一电介质层为Si的氮化物或者氮氧化物，或者为Si、Al合金的氮化物或者氮氧化物，第一电介质层厚度为6～25nm。Si、Al合金的氮化物或者氮氧化物中Si含量不低于80%。

如上所述，复合吸收层为SnO_x层、ZnSn_xO_y层、ZnAlO_x层、TiO₂层中的至少两个单层叠加构成的复合层，复合吸收层厚度为10～130nm。

如上所述，第一复合电介质层、第二复合电介质层和第三复合电介质层为SiAlO_x层、ZnAlO_x层、TiO₂层中的至少两个单层叠加构成的复合层，第一复合电介质层、第二复合电介质层和第三复合电介质层厚度均为12～80nm。

如上所述，第一银层、第二银层和第三银层为纯度不低于99.99%的金属银层，或者银的含氧膜层，第一银层、第二银层和第三银层厚度均为2～12nm。

如上所述，第一保护层、第二保护层和第三保护层为Ni的氧化物或者氮氧化物，或者为NiCr合金氧化物或者氮氧化物，第一保护层、第二保护层和第三保护层的厚度均为3～16nm。NiCr合金氧化物或者氮氧化物中，Ni含量不低于80%。

顶层保护层为Si的氮化物或者氮氧化物，或者Si、Al合金的氮化物或者氮氧化物，顶层保护层厚度为20～100nm。Si、Al合金的氮化物或者氮氧化物中，Si含量不低于80%。

上述可钢化三银低辐射镀膜玻璃采用复合膜层结构，采用多种材料的匹配从而获得更加优良的热学和光学稳定性能，在钢化过程中能保证银层尽可能的不被氧化变色，各膜层的性能也更加稳定，保证产品性能在钢化前后保持一致。

各层的制备顺序如下：

玻璃基片清洗

预抽真空

镀制第一电介质层

镀制复合吸收层

镀制第一银层

镀制第一保护层

镀制第一复合电介质层

镀制第二银层

镀制第二保护层

镀制第二复合电介质层

镀制第三银层

镀制第三保护层

镀制第三复合电介质层

镀制顶层保护层

如上所述，镀制第一电介质层为Si的氮化物或者氮氧化物，或者Si含量不低于80%的SiAl合金氮化物或者氮氧化物膜层时，采用的是Si、Al合金靶材，中频交流电源模式，工艺气氛为纯氮气或者氮气和氧气混合气体。

如上所述，镀制复合吸收层时采用中频交流电源模式，工作气体为氮气和氧气混合气体。镀制SnO_x层时可采用SnO_x靶材，镀制ZnSn_xO_y层时可采用ZnSn合金靶材，镀制ZnAlO_x层时可采用ZnAl合金靶材，镀制TiO₂层时可采用TiO₂靶材。