[实用新型]流体调节装置有效

专利信息
申请号: 201320239754.3 申请日: 2013-04-25
公开(公告)号: CN203272920U 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: J·S·梅维宇斯;周彪 申请(专利权)人: 艾默生过程管理调节技术公司
主分类号: F16K17/20 分类号: F16K17/20;F16K31/126
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 流体 调节 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种诸如气体调节器之类的流体流动调节装置,更具体地涉及一种具有平衡内件的气体调节器。

背景技术

在通常的气体分配系统中供应气体的压强可根据对系统的要求、气候、供应来源和/或其它因素而改变。然而,装备有气体装置的大多数的终端用户设备,诸如电炉、烤炉等,需要根据预定的压强,并以小于或等于气体调节器的最大容量输送气体。因此,气体调节器被实现在这些分配系统中,以确保所输送的气体满足终端用户设备的需求。常规的气体调节器通常包括用于感测和控制所输送的气体的压强的闭环控制致动器。

除了闭环控制之外,一些常规的气体调节器包括用于改进气体调节器对下游压强变化的反应的平衡内件。平衡内件适用于减少上游压强对气体调节器的性能的影响。上游压强设置成与平衡隔膜流体连通,以对气体调节器的控制元件施加与下游压强的力方向相反的力。因此,随着上游压强改变,施加相应的力以平衡由上游压强如下文详述而产生的力,从而气体调节器仅响应于下游压强而动作。

在具有平衡内件的常规调节器中,流过气体调节器的一部分流体可穿过在控制元件内纵向设置的通道,该通道朝至少部分地由平衡隔膜限定的平衡腔开口。这种配置在较低的入口压强下允许较高的流量。但是,在阀门打开时,平衡隔膜承受的入口压强不保持恒定。更具体地,感测压强随着阀门打开而降低,导致气体调节器中出现“静态偏差(droop)”和不稳定。

实用新型内容

在具有平衡内件的常规调节器中,流过气体调节器的一部分流体可穿过在控制元件内纵向设置的通道,该通道朝至少部分地由平衡隔膜限定的平衡腔开口。这种配置在较低的入口压强下允许较高的流量。但是,在阀门打开时,平衡隔膜承受的入口压强不保持恒定。更具体地,感测压强随着阀门打开而降低,导致气体调节器中出现“静态偏差(droop)”和不稳定。

流体调节装置包括调节阀,该调节阀具有限定入口和出口的阀体,所述调节阀还包括设置在所述入口与所述出口之间的阀端口。致动器耦接至所述调节阀,且包括阀盘,该阀盘设置在所述调节阀内且适于沿纵向轴线在与所述阀端口密封接合的关闭位置和远离所述阀端口的打开位置之间移位。罩壳组件与所述阀端口相邻设置,且环状罩壳组件包括适于容纳所述阀盘的第一孔口。所述流体调节装置还包括平衡隔膜,该平衡隔膜固定至所述阀盘的一部分和所述罩壳组件的一部分。除此之外,所述流体调节装置具有平衡腔,并且所述平衡腔的一部分由所述平衡隔膜的顶面和所述罩壳组件的内表面限定。所述流体调节装置另外还包括感测通道,该感测通道从所述调节阀的所述入口延伸至所述平衡腔,以使所述调节阀的所述入口与所述平衡腔流体连通。

通过这样配置,导入平衡腔32的上游压强独立于阀盘22的位置,且作用在平衡隔膜30上的压力是恒定的。因此,可提高流体调节装置10的稳定性,进而可在较高的入口压强下实现较高的流量。

附图说明

图1是处于全开位置下的气体调节器的实施例的侧剖视图,该气体调节器具有致动器和带有感测通道的调节阀;

图2是图1的感测通道和罩壳组件的侧剖视图;

图3是感测通道的另一实施例的侧剖视图;

图4是罩壳组件的局部侧剖视图;

图5是阀盘的局部侧剖视图;以及

图6是引导插入件的侧剖视图。

具体实施方式

图1和图2示出包括调节阀12的流体调节装置10,该调节阀12具有限定入口14和出口16的阀体13,上述调节阀12还包括设置在入口14与出口16之间的阀端口18。致动器20耦接至调节阀12并包括阀盘22,该阀盘22设置在调节阀12内,并适于在与阀端口18密封接合的关闭位置和远离阀端口18的打开位置之间沿纵向轴线24移位。如图3A和图3B所示,罩壳组件26与阀端口18相邻设置,环状罩壳组件26包括适于收纳阀盘22的至少一部分的第一孔口28。流体调节装置10还包括平衡隔膜30,该平衡隔膜30固定至阀盘22的一部分和罩壳组件26的一部分。除此之外,流体调节装置10具有平衡腔32,该平衡腔32的一部分由平衡隔膜30的顶面31和罩壳组件26的内表面33限定。流体调节装置10另外包括感测通道34,该感测通道34从调节阀12的入口14延伸至平衡腔32,以使调节阀12的入口14与平衡腔32流体连通。通过这样配置,导入平衡腔32的上游压强独立于阀盘22的位置,且作用在平衡隔膜30上的压力是恒定的。因此,可提高流体调节装置10的稳定性,进而可在较高的入口压强下实现较高的流量。

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