[实用新型]玻璃镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜设备，尤其是一种玻璃镀膜设备。

背景技术

玻璃镀膜，尤其是在大尺寸玻璃基板上镀膜，常用的工艺是化学气相沉积，这一工艺的难点是对镀膜均匀性的控制，膜层的厚度的不均匀，或是薄膜化学性质的不均匀，都会导致玻璃光学、电学等性能指标的降低。要得到均匀的镀层，必须使镀膜前驱物在整个基板宽度方向上进气、排气以及温度分布都是均匀的。为了在大尺寸基板上的均匀成膜，有很多方法被采用，1、采取在气体通道内设置许多连续的挡板，增加气体的行程和阻力来达到气体在玻璃宽度方向上的分布均匀，对镀膜前驱气体的混合和宽度方向上分布均匀都起到很好的作用，但是增加了气体的行程，对于具有热敏性的镀膜前驱体无疑增加了发生预反应的可能性。2、进气管采取的是多级套管的形式，每级套管上开有一定数量不等距的小孔，通过这种等静压管设计基本能实现基板宽度方向上缸体的均匀性，但管上小孔的加工精度很难保证，更重要的是很容易造成小孔堵塞，难以清理。3、为了能够达到玻璃基板宽度方向上气体分布均匀，采用分段补气的方式，但是这样的镀膜气体分配装置本身结构过于复杂而难以控制。4、采取的是单根管路单侧进气，通道内设置有气体分布装置，这种勭采取单管的单侧进气，很难保证气体在基板宽度方向上的分布均匀。

实用新型内容

鉴于上述状况，有必要提供一种能适合大尺寸玻璃板并能产生均匀镀层的玻璃镀膜设备。

为解决上述技术问题，提供一种玻璃镀膜设备，包括镀膜基座和设于该镀膜基座正下方的玻璃传输装置，该镀膜基座与该玻璃传输装置之间设有反应区，该镀膜基座中央设有蒸气腔，该蒸气腔上方设有蒸气腔盖，该蒸气腔盖中央设有进气口，该蒸气腔下方开有喷气嘴槽，该喷气嘴槽与该反应区相通。

该设备还包括排气窗，该排气窗与该反应区相连通。

该排气窗为两个，分别设于该反应区两端。

该蒸气腔横截面为倒锥形。

该喷气嘴槽的槽宽大于该玻璃传输装置的宽度。

上述玻璃镀膜设备开有喷气嘴槽，从设备中心的喷气嘴槽上喷出来的气体或镀膜蒸气材料以及气体载体与待镀膜玻璃相遇，然后沿着与玻璃传输装置传输相同或相反的方向的反应区内向喷气嘴槽两侧在整个待镀膜玻璃表面上扩散开来，多余的物质及挥发性的反应生成物由吸取装置排出排气窗，该设备能适合大尺寸玻璃板并能产生均匀镀层的玻璃镀膜设备。

附图说明

图1是本实用新型玻璃镀膜设备结构示意图。

图2是 本实用新型玻璃镀膜设备实施例示意图。

其中：10、待镀膜玻璃；  20、传输装置；  30、镀膜基座；  32、蒸气腔；  34、喷气嘴槽；  40、蒸气腔盖；  42、进气口；  50、排气窗；  60、反应区；  70、混合蒸气；  80、镀膜蒸气；  90、废气。

具体实施方式

下面将结合附图及实施例对本实用新型的玻璃镀膜设备作进一步的详细说明。

请参见图1，本实用新型一种玻璃镀膜设备，包括镀膜基座30和设于该镀膜基座30正下方的玻璃传输装置20，该镀膜基座30与该玻璃传输装置30之间设有反应区60，该镀膜基座30中央设有蒸气腔32，该蒸气腔32上方设有蒸气腔盖40，该蒸气腔盖40中央设有进气口42，该蒸气腔32下方开有喷气嘴槽34，该喷气嘴槽34与该反应区60相通。

该设备还包括排气窗50，该排气窗50与该反应区60相连通；该排气窗60为两个，分别设于该反应区60两端。

该蒸气腔32横截面为倒锥形。

该喷气嘴槽34的槽宽大于该玻璃传输装置20的宽度，这样能保证整个待镀膜玻璃都能与镀膜蒸气80接触，发生反应。

如图1、图2所示，本实用新型实施例的一种玻璃镀膜设备，该镀膜蒸气80从进气口42进入到倒锥形的蒸气腔32内，该镀膜蒸气80通过喷气嘴槽34进入反应区60，通过与待镀膜玻璃10接触，与该待镀膜玻璃10表面物质发生反应形成混合蒸气70，发生反应后的废气90由吸取装置排出排气窗50，该待镀膜玻璃10在整个镀膜过程中随传输装置20传输方向前进，最后完成整个镀膜过程。

上述玻璃镀膜设备开有喷气嘴槽34，从设备中心的喷气嘴槽34上喷出来的气体或镀膜蒸气80材料以及气体载体与待镀膜玻璃10相遇，然后沿着与玻璃传输装置20传输相同或相反的方向的反应区60内向喷气嘴槽34两侧在整个待镀膜玻璃10表面上扩散开来，多余的物质及挥发性的反应生成物由吸取装置排出排气窗50，该设备能适合大尺寸玻璃板并能产生均匀镀层的玻璃镀膜设备。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。