[实用新型]研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置有效
申请号: | 201320262515.X | 申请日: | 2013-05-14 |
公开(公告)号: | CN203305049U | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 石井游;伊藤贤也;高桥正三;铃木美加 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/00;B24B37/24 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 工件 化学 机械 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种对金属框体等的工件进行研磨镜面加工用的研磨垫以及化学机械研磨(CMP)装置。
背景技术
从外观方面的观点出发,需要对具有由平面和曲面组合而成的立体的表面形状的工件实施镜面加工。作为这种工件的例子,如有由铝、不锈钢等形成的金属框体或树脂框体。框体例如用于手机、智能电话、多功能移动终端、手掌游戏机、照相机、钟表、音乐媒体播放器、个人计算机、汽车零件、装饰品和医疗设备等。
在以往的研磨技术和抛光技术中,虽然可对平面进行研磨镜面加工,但用研磨技术及抛光技术对曲面进行镜面加工是非常困难的。虽然用手工的抛光加工能研磨曲面和平面,但尤其对于平面来说,无法实现研磨技术和抛光技术那种程度的平坦的镜面。
实用新型内容
本实用新型是为解决上述现有问题而做成的,其目的在于提供一种研磨垫,能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。另外,本实用新型的目的在于提供一种能对这种工件进行镜面研磨的化学机械研磨装置。
用于解决课题的手段
为实现上述目的,本实用新型的第1技术方式是一种研磨工件用研磨垫,其特点是,具有:具有研磨面的弹性垫;支承所述弹性垫的变形自如的基层;以及将所述弹性垫与所述基层接合的粘接层。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述基层比所述弹性垫厚。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述基层具有所述弹性垫的厚度的至少3倍的厚度。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述基层比所述弹性垫柔软。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述粘接层具有比所述弹性垫大的伸缩性。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述粘接层由能维持柔软状态的粘接剂形成。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述弹性垫由发泡聚酯形成。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述基层由聚氨酯海绵形成。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述粘接层由丙烯类的粘接剂形成。
本实用新型的第2技术方式是一种研磨工件用的化学机械研磨装置,其特点是具有:上述研磨垫;支承所述研磨垫的可旋转的研磨台;对所述工件进行保持、将所述工件按压在所述研磨垫上的托架;使所述托架绕该托架的轴心旋转的旋转机构;以及将研磨液供给到所述研磨垫上的研磨液供给机构。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述托架具有摆动机构,该摆动机构使所述工件以通过该工件的被研磨面近旁的规定的旋转轴线为中心摆动。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,还具有提升机构,该提升机构将向上的力赋予所述托架,从而调整所述工件的研磨压力。
本实用新型的第3技术方式是一种化学机械研磨装置,其特点是,具有:对研磨垫进行支承的可旋转的研磨台;将所述工件按压到所述研磨垫上的托架;使所述托架绕该托架的轴心旋转的旋转机构;以及将研磨液供给到所述研磨垫上的研磨液供给机构,所述托架具有使所述工件摆动的摆动机构,所述摆动机构具有:对所述工件进行保持的工件保持部;转动促动器,在使所述工件与所述研磨垫接触的状态下,该转动促动器使所述工件保持部绕规定的回旋轴线以规定角度摆动。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述摆动机构还具有将所述工件保持部与所述转动促动器连接起来的至少一个旋转连接机构,所述旋转连接机构构成为,可变更所述工件保持部相对于所述转动促动器的相对角度。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述旋转连接机构将所述工件保持部支承成绕与所述回旋轴线平行的旋转轴线旋转自如。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述至少一个旋转连接机构包括第1旋转连接机构和第2旋转连接机构,所述第1旋转连接机构将所述工件保持部与所述第2旋转连接机构连接,并将所述工件保持部支承成绕与所述回旋轴线平行的第1旋转轴线旋转自如,所述第2旋转连接机构将所述第1旋转连接机构与所述转动促动器连接,并将所述第1旋转连接机构支承成绕与所述回旋轴线及所述第1旋转轴线平行的第2旋转轴线旋转自如。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述工件具有应研磨的第1面、第2面以及将所述第1面与所述第2面连接起来的弯曲面,所述规定角度是所述第1面与所述第2面所构成的角度。
本实用新型的较佳技术方式的特点是,所述托架还具有沿所述工件的被研磨面的缘部将该工件覆盖的罩盖部件。
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