[实用新型]真空吸盘及装设有真空吸盘的支架型真空吸附设备

说明书

技术领域

本实用新型有关于一种真空吸盘，尤指一种可用于吸附多孔隙料片且可藉由摩擦垫片增加工件吸持稳固性的真空吸盘，同时还涉及一种装设有该真空吸盘的真空吸附设备。

背景技术

有关于真空吸盘的现有技术主要可分为两种：一种为接触式真空吸盘，另一种为非接触式真空吸盘。

普遍而言，较为常见且应用层面较广泛的为接触式真空吸盘技术，其原理是透过气体由入口处朝出口处的流动所产生的负压，用以直接施加于所欲吸附的工件而达到吸附工件的目的。由于负压是直接施加于工件上，当工件吸附于吸盘上时可于气室内形成类似真空的环境，令工件紧密的结合于吸盘上，因此，接触式吸盘系可负荷较为沉重的载物。然而，接触式的真空吸盘于吸附工件时吸盘将会直接接触工件的表面，如应用在高精密的对象时可能会刮伤对象表面，因而降低生产的良率，是以，接触式吸盘并不适用于高精密度制程的使用。

为解决上述问题，现今应用于高精密工件的移载作业通常是采用非接触式吸盘技术，其原理是透过吸盘于工件表面上所释出的高速气流，透过柏努利现象的原理，于高速气流中产生低压的类真空区域，藉以吸附工件。其中，吸附工件所产生的正向力将与工件的重量与气流施加于工件的反向力抵销，使得工件与吸盘间维持固定间距，而达到非接触式的目的。如中国台湾第I331981号专利，揭露一种非接触式输送装置，其包括有壳体，一内构件设置于该壳体内部，空气经由该内构件导入环形通道，并由该环形信道以涡漩方式输送至一环形槽并向外吹出形成一吸附待测对象的真空区域，藉此以邻近但不接触的方式吸附一待测对象，又如中国台湾第M344217号专利揭露一种非接触型真空吸盘，提供一种无排气孔设计的吸盘本体，利用气体由各该吸附底面及对象间喷出，以形成该气体薄膜，而使该对象呈漂浮状态而达到非接触式吸附效果，皆属相同原理的应用。

然而，前述的接触式吸盘及非接触式吸盘于使用上仍有许多缺失。举接触式吸盘为例，接触式吸盘于吸附工件时，必须将吸盘贴附于工件表面上达到一气密的效果，如果用于吸附多孔隙料片时，必须调整吸盘的位置始能达到吸附的目的，倘若于料片上密布有数个孔隙或沟槽时，甚至不能达到吸附的效果。观之非接触式吸盘，其虽可以达到吸附多孔隙料片的目的，然而，于固定料片、工件时，由于料片及工件是漂浮于半空中，并不能稳定的固持，即便现今处理的方式会用框架限制料片、工件的侧缘，然而该框架尚需配合料片大小调整，操作上多有不便，且应用于翻面机时，亦有可能因为翻面时所产生的加速度导致料片、工件碰撞吸盘，使得料片或工件受损，这类的缺失将使得非接触式吸盘于使用上过于受限。

为避免碰撞的问题，于中国台湾第I338084号专利揭露一种无碰撞非接触式真空吸盘，其是藉由一斥力产生部使料片于吸附时产生一正向气流推抵料片避免料片碰撞吸盘。另外于中国台湾第201240009号专利揭露一种非接触式真空吸盘，该吸盘于吸附面上更设有至少一防撞垫，然而上列的非接触式真空吸盘仍然必须利用框架限制其位置，始能达到移载料片的目的，且于使用中的状态，料片仍有可能因为移载、翻面时所产生的振荡与吸盘或是吸盘上的防撞垫碰撞，而有导致料片表面重复碰撞防撞垫因而导致料片表面受损的事情发生。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是：针对上述现有技术的不足，提供一种可同时具备非接触式真空吸盘吸附多孔隙料片的优点且亦可避免使用非接触式真空吸盘时所产生料片漂移不易固定的真空吸盘，同时还提供一种装设有真空吸盘的支架型真空吸附设备。

为解决上述问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种支架型真空吸附设备，用以吸附并移载至少一工件，该支架式真空吸附设备包含有移动装置，该移动装置包含有至少一横臂以及连接于该横臂以操作该横臂移动的载具；其特点是，还包括至少二真空吸盘，该吸盘包含有装设于该横臂上的吸盘本体、设置于该吸盘本体一侧的吸嘴、以及设置于吸嘴底侧的摩擦垫片，该吸盘本体包含有入气道，该吸嘴包含有设置于该吸嘴底侧的外环部以及内环部，该外环部及该内环部之间包含有一由该吸嘴底侧朝该入气道方向渐缩并连通于该入气道的环状气隙，气体经由该入气道向该环状气隙吹出时形成用以吸附该工件的环状真空区域，该摩擦垫片设置于该内环部上，该工件受该环状真空区域吸附时依靠于该摩擦垫片上，藉由该工件与该摩擦垫片间的摩擦力抵销该工件所承受的侧向力。