[实用新型]一种气刀及基板镀膜设备

权利要求书

1.一种气刀，其特征在于，包括气刀本体，所述气刀本体具有：

气体腔室；

与所述气体腔室连通的进气通道；

清洁基板时将所述气体腔室内的气体导向基板被清洁面的排气狭缝，所述排气狭缝与所述气体腔室连通；

清洁基板时将所述气体腔室内的气体导向基板边缘的气流通道，所述气流通道与所述气体腔室连通，所述气流通道内具有对所述气流通道内的气体进行电离的电离元件。

2.根据权利要求1所述的气刀，其特征在于，所述气流通道为两个，且两个所述气流通道的出气口分别位于所述排气狭缝的两侧。

3.根据权利要求1所述的气刀，其特征在于，所述气刀本体包括两个喷嘴，每一个所述喷嘴内具有一个所述气流通道。

4.根据权利要求1所述的气刀，其特征在于，所述气刀本体内设置有一个具有若干通气孔的隔板，所述隔板将所述气体腔室分隔成一个进气腔和一个排气腔，所述进气腔与所述进气通道连通，所述排气腔与所述排气狭缝连通。

5.根据权利要求4所述的气刀，其特征在于，所述气刀本体还具有位于所述排气腔两侧的具有排气狭缝的独立空腔，且每一个所述具有排气狭缝的独立空腔形成一个所述气流通道。

6.根据权利要求1所述的气刀，其特征在于，所述电离元件包括至少一根金属线。

7.根据权利要求1所述的气刀，其特征在于，所述电离元件包括金属网。

8.根据权利要求6或7所述的气刀，其特征在于，所述气刀本体中部的两侧分别具有一个凸台，所述凸台背离所述排气狭缝的一面设置有与所述电离元件连接的接线装置。

9.根据权利要求1所述的气刀，其特征在于，所述进气通道为至少两个，且沿所述排气狭缝的延伸方向均匀分布。

10.一种基板镀膜设备，包括镀膜腔室，其特征在于，还包括如权利要求1～9任一项所述的气刀，所述气刀设置于所述镀膜腔室入口的上部。