[实用新型]一种高频晶体管有效

专利信息
申请号: 201320287654.8 申请日: 2013-05-24
公开(公告)号: CN203325909U 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 高宗利 申请(专利权)人: 辽阳泽华电子产品有限责任公司
主分类号: H01L29/45 分类号: H01L29/45
代理公司: 沈阳利泰专利商标代理有限公司 21209 代理人: 王东煜
地址: 111200 辽宁省辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 高频 晶体管
【说明书】:

技术领域

    本实用新型涉及高频半导体器件,特别是涉及一种高频晶体管。

背景技术

目前市场上的高频晶体管,由于金的电导率高、物理化学性质相对稳定,易于淀积电镀,与其它金属的热匹配较好,因此常用来作为晶体管芯片的背面金属材料,即在外延片背面采用蒸发、溅射等方法形成背金层。虽然金与硅的结合产生的接触电阻已很小,但是超高频晶体管由于其高频特性的特殊需要,要求各个结之间的接触电阻、接触电容等越小越好,单纯金材料不是背金材料的最佳选择。也有采用多层金属结构,包括Pt(铂)层、Ni(镍)层、Cr(铬)层、W (钨)层、Au(金)层,但由于多层金属工艺复杂、不易控制,降低晶体管的高频损耗,和提高高频特性的效果不稳定。所述现有技术的缺陷值得改进。  

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是,提供一种可降低晶体管的高频损耗、提高高频特性的高频晶体管。

采用的技术方案是:

一种高频晶体管,包括高频晶体管的外延片,所述的外延片背面设有背金层,所述背金层为金属Pt(铂)层与 Au(金)层的二层合金化金属层结构。 

上述的由Pt层与Au层所形成的背金层的总厚度为1±0.10μm。

上述的外延片与背金层总厚度小于140微米。

本实用新型的有益效果在于:

经超减薄后采用二层金属依次溅射在外延片背面,在构成外延片的Si(硅)层、Pt(铂)层、Au(金)层中,相邻层材料之间具有良好的匹配性,可以相互之间的接触电阻达到最小,最终导致整体的接触电阻都较小,可降低晶体管的高频损耗,提高高频特性。本实用新型广泛应用在微电子电路中,能耗低,寿命长。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

在附图中,1、外延片; 2、Pt(铂)层; 3、Au(金)层。 

具体实施方式

一种高频晶体管,包括高频晶体管的外延片1,所述外延片1背面由内到外依次设有由Pt(铂)层 2、Au(金)3层,构成二层合金化背金层结构,所述由Pt、Au构成的背金层的总厚度为1μm,外延片经超减薄处理,处理后所述外延片1与背金层总厚度小于140微米,将两种金属依次蒸发、溅射在外延片1背面,形成背金层后,在500度高温和氢气保护下,进行20分钟的合金化,使外延片与背金层形成微合金。

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