[实用新型]布气装置及其真空磁控溅射镀膜设备有效
申请号: | 201320295747.5 | 申请日: | 2013-05-27 |
公开(公告)号: | CN203333750U | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 谢建军 | 申请(专利权)人: | 深圳市生波尔机电设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪山新*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 及其 真空 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
1.一种布气装置,其特征在于,包括主布气体,其中,所述主布气体包括均为中空且均通过气孔连通的一第一主布气部及至少两个呈层叠组合的第二主布气部,其中:
第一主布气部,其具有至少一个第一进气孔以及至少两个第一出气孔;
第二主布气部,其层叠组合体与所述第一主布气部为层叠连接,且与所述第一主布气部紧邻的第二主布气部具有与所述第一出气孔数量匹配且连通的至少两个第二进气孔以及数量多于该第二进气孔的第二出气孔,依此类推,远离第一主布气部的第二主布气部具有与前一个第二主布气部出气孔数量匹配且连通的进气孔以及数量多于该当前第二主布气部进气孔的若干个出气孔。
2.如权利要求1所述的布气装置,其中,
所述第一主布气部,其具有一个第一进气孔以及两个第一出气孔;
与所述第一主布气部紧邻的第二主布气部具有两个与所述第一出气孔连通的第二进气孔以及四个第二出气孔,依此类推,远离第一主布气部的第二主布气部具有与前一个第二主布气部出气孔数量匹配且连通的进气孔以及数量两倍于该当前第二主布气部进气孔的若干个出气孔。
3.如权利要求2所述的布气装置,其中,所述第一主布气部包括有第一进气管,其与第一进气孔连通。
4.如权利要求2所述的布气装置,其中,所述第一进气孔设置于第一主布气部的中间位置,所述第一出气孔在第一主布气部的长度方向上呈均匀布置;设置于第二主布气部上的出气孔在第二主布气部的长度方向上呈均匀布置。
5.如权利要求2所述的布气装置,其中,所述第一主布气部以及第二主布气部为不锈钢方管。
6.如权利要求4所述的布气装置,其中,还包括布置于主布气体至少一侧边的从布气体,所述从布气体包括均为中空且均通过气孔连通的一第一从布气部及至少一个第二从布气部,所述第一从布气部具有至少一进气孔,所述第二从布气部的出气孔与所述主布气体的至少一个第二主布气部的进气孔相连通。
7.如权利要求6所述的布气装置,其中,所述第一从布气部包括有第二进气管,其与第一从布气部的进气孔连通。
8.如权利要求6所述的布气装置,其中,所述第一从布气部以及第二从布气部为不锈钢方管。
9.一种真空磁控溅射镀膜设备,包括磁控溅射靶,其特征在于,还包括与所述磁控溅射靶匹配布置的如权利要求1-8任一所述的布气装置。
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