[实用新型]一种液晶显示器玻璃基板蚀刻设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及蚀刻设备技术领域，尤其涉及一种液晶显示器玻璃基板蚀刻设备。

背景技术

现有技术一般采用浸渍法和喷淋发来加工制造液晶显示器的玻璃基板，其中，浸渍法由于设备简单且成本低的优点而被广泛地应用于液晶显示器的玻璃基板加工制造。

在利用浸渍法加工制造液晶显示器的玻璃基板的过程中，蚀刻剂在箱体内流动并蚀刻玻璃基板，其中，蚀刻剂可以从箱体的顶部淋下，也可以从箱体的底部输入；对于蚀刻剂从箱体底部输入的结构形式而言，由于蚀刻剂通过一个或者多个入口直接通入至箱体的内部，蚀刻剂快速地流动并容易在箱体的内部产生涡流，进而造成箱体内部不同位置的流速不一样以致于影响同一批次玻璃基板的反应效率以及蚀刻质量的一致性。

另外，为了使得玻璃基板蚀刻时所产生的反应残渣能够更快地被带走，在对玻璃基板进行蚀刻作业的同时，箱体的内部同时还通入空气；所通入的空气能否均匀地分布于箱体内部并平衡地于各玻璃基板接触，对于蚀刻效率会产生重要影响。

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种液晶显示器玻璃基板蚀刻设备，能够有效地避免涡流对玻璃基板蚀刻质量的影响，进而能够有效地提高玻璃基板的蚀刻质量；另外，它还能够将玻璃基板表面蚀刻后的反应残渣快速地带走，即能够加快玻璃基板蚀刻薄化速度并提高蚀刻效率。

为达到上述目的，本实用新型通过以下技术方案来实现。

一种液晶显示器玻璃基板蚀刻设备，包括蚀刻箱体，蚀刻箱体的内部成型有蚀刻腔室，蚀刻箱体的内部于蚀刻腔室的下方成型有缓冲腔室，蚀刻箱体的内部于蚀刻腔室与缓冲腔室之间设置有搭肩，缓冲腔室的底部配装有至少两条与循环泵体的出液口连接且往缓冲腔室内供给蚀刻剂的进液管，蚀刻腔室与缓冲腔室之间装设有上下层叠且间隔布置的上导流板和下导流板，下导流板搭设于挡肩的上表面，上导流板位于下导流板的上方，下导流板开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的下导流孔，上导流板开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的上导流孔，上导流孔和下导流孔分别为圆形孔，上导流孔的直径较下导流孔的直径小；蚀刻腔室于上导流板的上方装设有用于固定支撑待蚀刻玻璃基板的固定支撑架以及与超声波发生器电连接的超声波振动板。

其中，所述固定支撑架包括有水平横向布置的固定支撑横杆，固定支撑横杆开设有沿长度方向呈均匀间隔布置的卡持槽。

其中，所述蚀刻箱体的上端部配装有与所述蚀刻腔室连通的溢流管。

本实用新型的有益效果为：本实用新型所述的一种液晶显示器玻璃基板蚀刻设备，其蚀刻箱体的内部设置蚀刻腔室、缓冲腔室以及搭肩，缓冲腔室的底部配装至少两条进液管，蚀刻腔室与缓冲腔室之间装设上导流板和下导流板，上导流板的上导流孔的直径较下导流板的下导流孔的直径小，蚀刻腔室内装设固定支撑架和超声波振动板。工作时，蚀刻剂经由进液管而输入至缓冲腔室内，缓冲腔室能起到缓冲作用；进入至缓冲腔室内的蚀刻剂依次经由下导流孔和上导流孔而进入至蚀刻腔室内并对蚀刻腔室内的玻璃基板进行蚀刻处理；本实用新型通过下导流板和上导流板对进入蚀刻腔室内的蚀刻剂进行二次导流处理，由于上导流孔较下导流孔的直径小，蚀刻剂最终被上导流板的上导流孔分成多股细小的蚀刻剂流且均匀平稳地进入至蚀刻腔室内；另外，蚀刻薄化过程中，本实用新型通过超声波清洗的方式来将玻璃基板表面蚀刻后的反应残渣带走并清洗掉。通过上述结构设计，本实用新型一方面能够有效地避免涡流对玻璃基板蚀刻质量的影响，进而能够有效地提高玻璃基板的蚀刻质量；另一方面通过超声波清洗的方式快速地带走反应残渣并加快玻璃基板蚀刻薄化速度，进而提高蚀刻效率。

附图说明

下面利用附图来对本实用新型进行进一步的说明，但是附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制。

图1为本实用新型的结构示意图。

在图1中包括有：

1——蚀刻箱体        11——蚀刻腔室

12——缓冲腔室       13——搭肩

2——进液管          3——上导流板

31——上导流孔       4——下导流板

41——下导流孔       5——固定支撑架

51——固定支撑横杆   511——卡持槽

6——超声波振动板    7——超声波发生器

8——溢流管          9——玻璃基板。

具体实施方式

下面结合具体的实施方式来对本实用新型进行说明。