[实用新型]具有均匀曝气的膜组件有效

专利信息
申请号: 201320298442.X 申请日: 2013-05-28
公开(公告)号: CN203264563U 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 朱高雄;杨彩凤;程岩 申请(专利权)人: 天津市兴源环境技术工程有限公司
主分类号: B01D65/00 分类号: B01D65/00;C02F3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300190 天津市南*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 具有 均匀 组件
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于一种水处理装置,特别涉及一种均匀曝气的膜组件。 

背景技术

随着膜技术的广泛运用,处理水量的增加、膜处理系统的大型化、集成化的提高,整个水处理领域中采用膜技术越来越多。而在膜生物反应器中膜的成本与其它原件相比较高,那么如何延长膜的使用寿命,就成为一个关键问题。现有膜生物反应器膜组件曝气是单点进气,就是空气在压缩机的作用下经过一根总管,然后分到几根支管,几根支管再分到多根分支管,这样由于离总管的距离不一样,沿程阻力和局部阻力也不相等,从而总的阻力降不相等,使得每一组膜组件所分配的气量完全不相等,供气不均匀。即使采用阀门控制,但还需要在线监测、调节,实现各组件均匀曝气比较困难。气量不足的膜组件污染速度就会加快,气量过高的膜组件有可能超过膜丝的强度,导致膜丝断裂。因此就需要解决在膜生物反应器正常运行过程中尽可能使每组膜的气量都相当,降低各支膜的污染速度,从而更有效的提高膜的使用寿命,成为膜生物反应器系统运行和维护的关键。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述的缺陷,提供一种均匀曝气的膜组件,它解决了运行过程中各组膜组件气量相当、均匀,实现膜生物反应器中膜组件均匀曝气,满足曝气需要,降低了膜的污染速度,提高了膜的使用寿命。 

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:一种均匀曝气的膜组件,其特征在于:它包括曝气总管、多支曝气支管和多组膜组件,所说的曝气总管与均匀分布的且相互汇集的多支曝气支管连接,多支曝气支管分别与多组膜组件连接。 

一种均匀曝气的膜组件,其特征在于:它包括曝气总管、多支曝气支管、多 支曝气分支管和多组膜组件,所说的曝气总管与均匀分布的且相互汇集的多支曝气支管连接,多支曝气支管分别与均匀分布且相互汇集的多支曝气分支管连接,多支曝气分支管分别与多组膜组件连接。 

本实用新型的优点和有益效果是: 

1、引入流体力学的同程式概念来设计建造膜组件的曝气管路,即自曝气总管开始至每一组膜组件进口支管止,每一组膜组件分配的气流经过的管路路程、管径均对应相等,也就是说沿程阻力和局部阻力也对应相等,从而总的阻力降相等,使得每一组膜组件所分配的气量完全相等,最大限度的保证膜组件的供气均匀性。 

2、各膜组件曝气,气压相当,气量均匀,减少污染,提高了膜的使用寿命,降低了成本。 

3、减少了膜的清洗频率及运行费用。 

4、适用于大水量、高集成化、多组膜组件的膜生物反应器。 

附图说明

图1是本实用新型实施例一结构示意图。 

图2是本实用新型实施例二结构示意图。 

其中:1 -曝气支管,2-曝气总管,3-膜组件,4-压缩机, 5-曝气池,6-控制阀,7-曝气分支管。 

具体实施方式

以下结合附图及较佳实施例,对依据实用新型提供的具体实施方式、结构、特征及其攻效,作进一步详细说明; 

实施例一:如图1所示,一种均匀曝气的膜组件,安装在一圆形膜生物反应器曝气池5内,压缩机4通过控制阀6与曝气总管2连接,曝气总管2与均匀分布且相互汇集的7支曝气支管1连接,7支曝气支管1分别与7组膜组件3连接,自曝气总管2开始至每一组膜组件进口支管止,每一组膜组件分配的气流经过的管路路程、管径均对应相等,空气在压缩机4的作用下通过控制阀6进入曝气总管2,曝气总管2向周边平均分流,供与各曝气支管1连接的膜组件曝气,曝气总管2到各膜组件的距离相同,这样进气量也相同,实现系统均匀曝气。 

实施例二:如图2所示,一种均匀曝气的膜组件,安装在一正方形膜生物反 应器曝气池5内,压缩机4通过控制阀6与曝气总管2连接,曝气总管2与均匀分布且相互汇集的4支曝气支管1连接,4支曝气支管1分别与均匀分布且相互汇集的2支曝气分支管7连接,2支曝气分支管7分别连接两组膜组件3,自曝气总管2开始至每一组膜组件进口分支管止,每一组膜组件分配的气流经过的管路路程、管径均对应相等,空气在压缩机4的作用下通过控制阀6进入曝气总管2,曝气总管2向周边平均分流,供与各曝气支管1、曝气分支管7连接的膜组件曝气,曝气总管2到各膜组件的距离相同,这样进气量也相同,实现系统均匀曝气。 

以上所述仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。 

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