[实用新型]用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，尤其是指钟罩腔室固定不动，其内设有多个靶电极，而钟罩腔室下放的圆形工件台可以上下移动的专门用于圆筒内壁镀膜的装置。 

背景技术

磁控溅射是在真空中利用高能粒子轰击靶表面，使被轰击溅射出的靶离子沉积在基片上。溅射时，气体被电离之后，气体离子在电场的作用下飞向电极靶材，并以高能量轰击靶表面，使靶材料发生溅射，溅射出的靶粒子沉积在衬底上。磁控溅射包括多种类型，各有不同的工作原理和应用对象。 

目前我们所见到的磁控溅射设备，多是用于对工件外表面的镀膜，针对圆筒管内壁的专门设备目前市场上尚未见到。而中罩式真空镀膜设备，通常的做法是上下移动钟罩，工件台固定不动。对体积和重量较大的钟罩式采用上下移动的方式显然就不适合了。 

鉴于尚未有针对圆筒管内壁的镀膜设备，本实用新型是采用钟罩腔室固定不动，而工件台可以上下移动的设计方式，当工件台移动至最高位置时，工作台与钟罩腔室形成真空密闭，这时靶电极是正好插入在圆筒内部的中心位置。本使用新型的优点是：(1)钟罩腔室固定不动，工件台上下移动，有利于钟罩腔室的固定和安装，减少施工难度。(2)衬底和靶极之间的电场可以提高溅射效率，提高薄膜的致密度以及与衬底材料的结合力。 

实用新型内容

考虑到现有技术所存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等，其特征是：一个钟罩式真空腔固定在一个支架上，其真空腔内设有多个靶电极，在钟罩式真空室的下方，放置一个可以上下移动的圆形工件台，在该工件台上设有圆筒工件定位支架，当把工件台升起后，该工件台与钟罩式真空室形成真空密封，这时靶电极是插放在圆筒工件的中心位置，在靶电极接通电源后，在靶电极周围形成溅射等离子体，并溅射出 

一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等，其特征是：一个钟罩式真空腔是固定在一个门形支架的中部位置，该钟罩式真空腔的侧面设有真空抽气窗口和观察窗口，其上方设有固定靶电极的固定窗口。 

一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等，其特征是：在钟罩式真空腔内设有多个靶电极，该多个靶电极通过绝缘材料与真空罩绝缘，该多个靶电极可以与射频电源，也可以与高频电源，以及与直流电源连接，在靶的内部放置磁场。 

一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等，其特征是：在钟罩式真空腔室的下方，放置一个可以上下移动的圆形工件平台，在该工件平台上设有多个固定圆筒工件的定位支架。 

一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等，其特征是：在工件平台上升到最高位置时，工件平台与钟罩式真空腔体形成真空密闭，这时靶电极是正好插放在圆筒工件的中部位置。 

一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等，其特征是：在工件台升起后，靶电极是插放在圆筒工件的中心位置，在靶电极接通电源后，在靶电极周围形成溅射等离子体，并溅射出靶上的粒子沉积在圆筒工件的内表面，在靶电极和圆筒工件之间可以施加偏压电场增加沉积层的结合力。 

附图说明

下面结合附图对本实用新型进行进一步的描述，其中： 

图1为本发明实施例：打开镀膜腔室，放置工件时的设备结构示意图； 

图2为本发明实施例：关闭镀膜腔室，开始镀膜时的设备结构示意图。 

具体实施方式：

下面参照附图，结合具体的实施例对本实用新型进行详细的描述。 

首先，参阅图1和图2，图1打开镀膜腔室，放置工件时的设备结构示意图；图2是关闭镀膜腔室，开始镀膜时的设备结构示意图。两个图所示为用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备，它是一个钟罩式真空腔室101是固定在一个门形支架100的中部位置，该门形支架是通过角 铁108与地面固定，在该门形支架上设有加强支撑杆109；该钟罩式真空腔101的侧面设有真空抽气窗口111和观察窗口112，其上方设有固定靶电极的固定窗口113，以及真空机测量窗口107。