[实用新型]全方位调控植物生长条件的植物培育装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及植物培育装置，特别是一种全方位调控植物生长条件的植物培育装置。

背景技术

现代农业中，大棚栽培由于可适当控制气温、雨水、风等自然环境的影响，减少病虫害，因此普遍应用。目前大棚栽培技术包括有机质土垄栽培和计算机控制的无土栽培两种主流技术，其中有机质土垄栽培的技术要求相对较低，接近传统的露天栽培方式，农民容易接受，但受土质影响大，土质差的砂蚩山区和沿海的盐碱土地区作物生长受影响。另外，连续单一品种的长期种植条件下，肥料的持续选择性吸收会使土壤板结，病虫害易于发生和传播。

无土栽培很好地解决了大鹏栽培中存在的上述问题，但是现有无土栽培技术也存在很多问题，例如栽培基质（营养液）更换工作量大、育出的植物苗根系较娇弱，移植存活率低、智能化程度低，需要的人力成本高等问题。

实用新型内容

本实用新型根据上述领域存在的问题，提供一种全方位调控植物生长条件的植物培育装置。能够监控并调整植物的生长特性自动调整植物生长环境条件。

一种全方位调控植物生长条件的植物培育装置，其特征在于，包括种植槽，育苗容器，营养液槽，回水管道、育苗环境条件调节设备，所述种植槽上端有开口，育苗容器的形状与所述开口相适应以便于能够通过所述开口悬于所述种植槽的腔室内；所述育苗容器底部有通孔所述营养液槽两端有至少各有一个管道口，所述种植槽与所述营养液槽通过安装在所述管道口的回水管连接；所述回水管道上设置有管道泵和截止阀；所述育苗环境条件调节设备设置在育苗容器上空，并由调节设备控制阀控制。

其中育苗容器用于植物生长，种植槽中盛装营养液，育苗容器底部的通孔用于与所述种植槽的内部进行气液连通，育苗容器的形状需要确保育苗容器能够通过卡在所述开口上，育苗容器在所述开口以下的部分的高度应小于所述种植槽的内腔室的高度。确保育苗容器与种植槽底部之间始终有一定的距离。所述种植槽和营养液槽之间通过回水管道连接，并通过回水管道上设置的管道泵以及控制阀等装置控制液体的供给和排放。所述育苗环境条件调节设备设置在育苗容器上空，可以设置成温度、湿度、二氧化碳、光照、养分等植物生长条件的监控与调节装置，并由调节设备控制阀控制。

本实用新型优选，所述育苗容器的上横截面大于下横截面，所述所述开口小于所述上横截面且大于所述下横截面，且其悬于种植槽的腔室内的部分的高度小于所述种植槽的内腔高度。确保所述育苗容器底部与种植槽底部之间有一定距离，否则育苗容器中的植物根部侵泡在溶液中，容易腐烂坏死。

所述育苗环境条件调节设备还包括感应器，所述感应器包括感应数据采集端和感应数据处理器，所述调节设备控制阀由所述感应器控制。本实用新型所采用的育苗环节调节设备的功能可以是单一的也可以是复合的，比如可以调节温度、湿度、二氧化碳和光照，这种情况下，相应地感应器的感应数据采集端是具备温度感应，湿度感应、二氧化碳浓度感应，养分探测以及光照感应功能的一个集成的感应数据采集端，也可以是多个独立的感应数据采集端分别采集数据然后中将数据送回感应数据处理器进行处理，然后由感应数据处理器发出指令控制育苗环境条件调节设备开启相应的调节开关以提供所需的条件。本实验新型该技术方案中所采用的数据采集以及数据处理技术都是目前已经成熟的现有技术。

所述种植槽中设置有温度计、酸碱度探测器、离子浓度探测器和液位计。操作人员通过读取这些数据后了解种植槽的营养液状况，进而决定是否开启所述管道泵将营养液槽中的营养液泵至种植槽中。

所述回水管道上还设有一个电磁阀，所述电磁阀由一个营养液数据处理器所控制，所述温度计、酸碱度探测器、离子浓度探测器和液位计测定的数据怒通过电磁导线传输给营养液数据处理器。这种情况下，所述温度计、酸碱度探测器、离子浓度探测器和液位计都应该是电子的，所测数据能够传输给一个营养液数据处理器，然后通过营养液数据处理器输出指令控制所述电磁阀。本实验新型中所采用的数据监控以及处理技术，都采用目前已经成熟的现有技术。

所述回水管道上还连接有系统补液阀和系统排液阀。用于向营养液槽中补充液体或排出种植槽或营养液槽的液体。

本实用新型的优点在于，植物栽培仍然是传统的土壤栽培，但是同时具备水培的优点即能够方便智能地检测土壤所需养分，并向土壤提供稳定的养分供给；同时实时监控植物生长条件并自动地作出应对措施。本实用新型能够全方位第监控和调节植物生长环境条件。

附图说明

图1本实用新型全方位调控植物生长条件的植物培育装置整体示意图