[实用新型]UV拼版装置

说明书

技术领域

本专利涉及超微细加工和全息技术领域，具体涉及大尺寸单元全息图形和具有深槽结构的超微细加工的光学结构的器件的UV拼版装置。

背景技术

UV是紫外光的缩写，紫外光的波长为10-400nm，有很强的穿透力，可以穿透大部分透明的玻璃以及塑料。

PET是英文Polyethylene terephthalate的缩写，PET薄膜是聚对苯二甲酸类塑料薄膜，主要包括聚对苯二甲酸乙二酯PET和聚对苯二甲酸丁二酯PBT。

国内外主要的拼版技术是机械拼版技术，其他的拼版技术适应面都较小，且有一定的局限性。目前国内、外广泛使用的机械拼版技术，是利用热压烫印的原理，将单元全息图通过热压烫印转移的方式，拼接成一张大尺寸的全息图母版。由于其原理和工艺方面的限制具有以下缺陷，（1）、大尺寸的全息图母版拼版过程中，拼版头的平整度和温度的均匀度都难于保证，只能拼接小尺寸的全息图，单元尺寸多在10厘米X10厘米范围之内，而不能拼接大尺寸的单元全息图形；（2）、机械拼版利用热压压力产生变形来进行复制，而信息损失较大，烫印（拼版）头的温度较高，而作用时间也较长，会有大量的热量传递到拼版基材上，而引起热变形，进而造成位置精度不高，保真度受限，不能拼接具有深槽结构的光学器件，如槽深可达20微米以上的透镜、微型棱镜等，拼接的图案的槽深只能是1微米左右，因此，对于大尺寸的单元全息图形，特别是对于具有深槽结构的光学器件，目前还没有一种较为理想的拼版装置。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种UV拼版装置，以克服上述现有技术中的不足。

为实现上述目的，本实用新型提供一种UV拼版装置，包括：

用于拼版用的单元图形母版，其上设有拼版所需的拼接图形；

玻璃平板，所述单元图形母版的一面与玻璃平板的一面相粘贴连接；

对准用感光底片，所述感光底片上设有多个长方格；

大母版用的PET薄膜，所述PET薄膜一面进行过电晕处理或涂布具有增加表面张力的涂层，所述PET薄膜做增加表面张力处理的一面与单元图形母版接触，所述PET薄膜的端部与玻璃平板粘贴连接，所述感光底片与PET薄膜的另一面粘贴连接，所述感光底片的一个长方格与单元图形母版上的拼接图形对准；

曝光用的掩模板，所述掩模板上设有透光区域，所述掩模板与所述感光底片的长方格粘连接，所述掩模板上的透光区域与感光底片上的长方格对齐；

UV光源，用于在掩模板的上方照射使掩模板透光区域内的UV胶固化，使固化后的UV胶薄层复制了单元图形母版上的图案。

进一步地，上述拼接图形的四个角设有对准用的十字标记线。

进一步地，上述玻璃平板为厚度大于5mm的黑色或棕色平板玻璃。

进一步地，上述PET薄膜的厚度为120—200μm，所述PET薄膜的一面处理后的表面张力为44-48达因。

本实用新型UV拼版装置不受拼接单元图形尺寸的限制，可拼接含各种尺寸的单元图形的大母版，特别适合大尺寸图形的拼接；也不受拼接图案沟槽深度的限制，可以填充任意深度的沟槽，既可拼接浅槽结构的全息图，也可拼接具有深槽结构的图案，适应范围广，实用性强。

本实用新型UV拼版装置利用紫外光固化，由于紫外光固化是一种冷处理过程，不会使拼版基材产生热变形，因而定位精度高，同时在液态状况下进行复制而后固化，液体具有优良的填充能力和特高的保真度，可以获得高保真度的拼版。

附图说明

图1为本实用新型单元图形母版的结构示意图；

图2为本实用新型将单元图形母版粘贴于玻璃平板上的示意图；

图3为本实用新型菲林的结构示意图；

图4为本实用新型掩模板的结构示意图；

图5为本实用新型将菲林粘贴于PET薄膜的未经表面处理面的示意图；

图6为本实用新型PET薄膜的一端粘贴于玻璃平板上的示意图；

图7为本实用新型菲林上面粘贴曝光用的掩模板示意图；

图8为本实用新型将PET薄膜翻开以露出单元图形母版的示意图；

图9a为本实用新型用胶辊从单元图形母版滴胶处向前滚压的示意图；

图9b为本实用新型UV胶液就会均匀分布于单元图形母版的表面的示意图；

图10为本实用新型用UV灯在掩模板的上方照射使掩模板透光区域内的UV胶固化的示意图；

图11为本实用新型单元图形母版的拼接完成后的结构示意图；

图12为本实用新型UV拼版方法流程图；