[实用新型]一种双轴单补恒光路补偿装置有效

专利信息
申请号: 201320318251.5 申请日: 2013-06-04
公开(公告)号: CN203356847U 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 沈晖;宋维建;张鹏程 申请(专利权)人: 苏州领创激光科技有限公司
主分类号: B23K26/04 分类号: B23K26/04
代理公司: 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 代理人: 张相午
地址: 215308 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双轴单补恒光路 补偿 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种补偿装置,特别涉及一种双轴单补恒光路补偿装置。

背景技术

现有技术中,如专利ZL201010605236.X公开了一种激光切割机的全行程光路补偿装置,它设置在激光切割机的激光发生器与激光切割头之间,包括第一光束反射镜座、第二光束反射镜座、电机、第三光束反射镜座、第四光束反射镜座和第五光束反射镜座;其中第一光束反射镜座与激光发生器之间具有恒定的距离;第二光束反射镜座与第三光束反射镜座之间具有恒定的距离;第二光束反射镜座、电机和第三光束反射镜座固定安装在同一个底座上并可一起沿X轴方向移动。该全行程光路补偿装置的光程长,应用该全行程光路补偿装置的激光切割机整机长度长,占地面积大,使用不方便。

实用新型内容

针对现有技术上存在的不足,本实用新型提供了一种光程更短的双轴单补恒光路补偿装置。

为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:

一种双轴单补恒光路补偿装置,包括激光器,所述激光器的光路上设有A反射镜,A反射镜的光路上设有B反射镜,B反射镜的光路上设有C反射镜,B反射镜与C反射镜设置在第一光补轴座上,C反射镜的光路上设有D反射镜,D反射镜的光路上设有F反射镜,D反射镜与F反射镜设置在第二光补轴座上,F反射镜的光路上设有G反射镜,G反射镜的光路上设有喷嘴。

进一步地,所述第一光补轴座上设有第一光补轴电机。

进一步地,所述第二光补轴座上设有第二光补轴电机。

采用上述技术方案的双轴单补恒光路补偿装置,由于所述激光器的光路上设有A反射镜,A反射镜的光路上设有B反射镜,B反射镜的光路上设有C反射镜,B反射镜与C反射镜设置在第一光补轴座上,C反射镜的光路上设有D反射镜,D反射镜的光路上设有F反射镜,D反射镜与F反射镜设置在第二光补轴座上,F反射镜的光路上设有G反射镜,G反射镜的光路上设有喷嘴,所以根据喷嘴的位置,第一光补轴座与第二光补轴座运动,喷嘴在可加工范围内的任何位置,都能保证U1+U3+X1+Y1=U2+U4+X2+Y2,从而缩短光程,应用该装置的激光加工设备整机长度大幅减少,机床重量和占地面积明显减小。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式来详细说明本实用新型;

图1为本实用新型双轴单补恒光路补偿装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。

如图1所示,一种双轴单补恒光路补偿装置,包括激光器1,所述激光器1的光路上设有A反射镜2,A反射镜2的光路上设有B反射镜3,B反射镜3的光路上设有C反射镜4,B反射镜3与C反射镜4设置在第一光补轴座5上,C反射镜4的光路上设有D反射镜7,D反射镜7的光路上设有F反射镜8,D反射镜7与F反射镜8设置在第二光补轴座9上,F反射镜8的光路上设有G反射镜11,G反射镜11的光路上设有喷嘴12,所述第一光补轴座5上设有第一光补轴电机6,所述第二光补轴座9上设有第二光补轴电机10。

实施例一

如图1所示,一种双轴单补恒光路补偿装置,包括激光器1,激光器1的光路上设有A反射镜2,A反射镜2的U1轴方向设有B反射镜3,B反射镜3的Y轴方向设有C反射镜4,B反射镜3与C反射镜4设置在第一光补轴座5上,C反射镜4的U3轴方向设有D反射镜7,D反射镜7的Y轴方向设有F反射镜8,D反射镜7与F反射镜8设置在第二光补轴座9上,F反射镜8的X1轴方向设有G反射镜11,G反射镜11的Y1轴方向设有喷嘴12,第一光补轴座5上设有第一光补轴电机6,第二光补轴座9上设有第二光补轴电机10。

本实用新型双轴单补恒光路补偿装置,根据喷嘴12的位置,第一光补轴电机6与第二光补轴电机10分别拖动第一光补轴座5与第二光补轴座9运动,喷嘴12在可加工范围内的任何位置,都能保证U1+U3+X1+Y1=U2+U4+X2+Y2,从而光程更短;应用该装置的激光加工设备整机长度大幅减少,机床重量和占地面积明显减小。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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