[实用新型]一种利于物料充分混合的氧化槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种化工、冶金领域中的生物氧化设备，尤其涉及一种立式氧化槽。

背景技术

氧化槽为湿法冶炼中的常用设备，其筒体中常设置导流筒来形成筒体内部流体的循环，使物料混合均匀。导流筒中通常还设置有曝气装置以促进气液的物质交换，但现有的氧化槽中一方面仅在导流筒的某一高度设置单一曝气头，对于径向尺寸大、高度尺寸大的氧化槽来说，无法形成充分的、均匀的物质交换。

实用新型内容

本实用新型克服了现有技术的不足，提供一种曝气彻底、高效，有助于氧化槽整个轴向物料充分混合的氧化槽。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为：一种利于物料充分混合的氧化槽，包括上端开口的中空筒体和垂直设于所述筒体内的两端开口的导流筒，所述筒体和导流筒间留有间隙，所述间隙中填充填料，所述导流筒中还设置有曝气装置，其特征在于：所述曝气装置包括压缩空气管和与所述压缩空气管相连通的曝气头，所述曝气装置还包括至少两个沿垂直方向分布的盘状支架，所述盘状支架上设置若干所述曝气头；所述导流筒筒壁上设有沿周向分布的导流孔，所述导流孔还沿导流筒轴向上密下疏的分布。

优选的，所述曝气装置包括两个沿垂直方向分布的盘状支架，设置在所述盘状支架上的曝气头环形分布。

优选的，所述两个盘状支架上设有相同数量的所述曝气头，两个盘状支架上的对应曝气头周向错位分布。

优选的，所述盘状支架上的曝气头分布呈圆环状，一个所述盘状支架上曝气头分布形成的所述圆环与另一个所述盘状支架上曝气头分布形成的圆环半径相等。

优选的，所述的一个盘状支架在筒体中的设置高度为筒体本身高度的2/5，另一个盘状支架在筒体中的设置高度为筒体本身高度的3/5。

优选的，所述的两个盘状支架中，每个盘状支架的中部设有一个所述曝气头，外周环形设置有六个所述曝气头。

优选的，沿所述导流筒轴向，导流筒筒壁下部的导流孔孔径大于筒壁中部的导流孔孔径大于筒壁上部的导流孔孔径。

本实用新型解决了背景技术中存在的缺陷，本实用新型的氧化槽中设有多个曝气头，且曝气头分至少两层设置，增强曝气效果，配合导流筒侧壁上上密下疏的导流孔分布，能够增强导流筒整个轴向上导流筒内外的气液交换，进而增强流体循环，提高物料混合的充分性。可以进一步设置每层曝气头环形分布，增强导流筒内周向曝气的均匀度，各层的对应曝气头还可以周向错位分布，在节省曝气头的情况下实现周向曝气的位置互补。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的优选实施例的结构示意图；

图2是图1中第一曝气结构的俯视图；

图3是图1中第二曝气结构的俯视图；

图4是本实用新型的优选实施例中导流筒的侧面展开示意图；

图中：2、筒体,4、导流筒,6、填料，8、压缩空气管，12、曝气头，14、导流孔，16、第一盘状支架,18、第二盘状支架，22、圆环，24、圆环，R、半径。

具体实施方式

现在结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1-3所示，一种利于物料充分混合的氧化槽，包括上端开口的中空筒体2和垂直设于筒体2内的两端开口的导流筒4，筒体2和导流筒4间留有间隙，间隙中填充填料6，导流筒4中还设置有曝气装置，曝气装置包括压缩空气管8和与压缩空气管8相连通的曝气头12，曝气装置还包括至少两个沿垂直方向分布的盘状支架，盘状支架上分别设置若干曝气头12。导流筒4筒壁上设有沿周向分布的导流孔14，导流孔14还沿导流筒4轴向上密下疏的分布。

具体的，如图4所示，在导流筒4筒壁的轴向不同高度设置导流孔14，每一高度的导流孔14沿导流筒4周向分布。优选的，沿导流筒4轴向，导流筒4筒壁下部的导流孔14孔径大于筒壁中部的导流孔14孔径大于筒壁上部的导流孔14孔径。