[实用新型]一种用于化学气相沉积工艺的衬底及石墨盘有效
| 申请号： | 201320326603.1 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN203346473U | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 田益西 | 申请（专利权）人： | 光垒光电科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/00 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 杨林;马翠平 |
| 地址： | 200050 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 沉积 工艺 衬底 石墨 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于化学气相沉积工艺的衬底，其特征在于：所述衬底呈扇形，所述扇形衬底的扇形圆心角为360°/N，其中N为大于等于2的自然数。
2.根据权利要求1所述的衬底，其特征在于，所述N为小于等于6的自然数。
3.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，所述扇形衬底为半圆型衬底，或1/6圆形衬底。
4.根据权利要求1所述的衬底，其特征在于，当N大于等于3时，所述扇形衬底的圆心角为圆角。
5.根据权利要求1所述的衬底，其特征在于，所述扇形衬底的圆弧两端的角为圆角。
6.根据权利要求4或5所述的衬底，其特征在于，所述圆角的圆角半径大于等于1mm。
7.一种用于化学气相沉积工艺的石墨盘，具有衬底承载面，其特征在于：所述衬底承载面设有用于容置如权利要求1至6任一项权利要求所述的衬底的收容槽，所述收容槽的形状与所述衬底的形状对应，用于增大石墨盘的利用率。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
