[实用新型]一种新型铁画加工砧板结构有效

专利信息
申请号: 201320328420.3 申请日: 2013-06-07
公开(公告)号: CN203449834U 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 俞葵 申请(专利权)人: 安徽砻坊科技发展有限公司
主分类号: B44C5/04 分类号: B44C5/04;B44D2/00
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 马荣
地址: 241000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 铁画 加工 砧板 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种用于加工铁画的工具,更具体的说,涉及一种具有显示复制作品功能的砧板结构。

背景技术

铁画,也称铁花,是安徽芜湖著名传统工艺美术品,铁画大都是用铁片和铁丝锻打焊接成图画的一种工艺品,一般涂成黑色或棕红色。捶打工艺是著作铁画的关键步骤,因此用于捶打工艺的锤子和砧板是加工铁画的关键工具。

大多数铁画作品其实是一个艺术形式再现的过程,将已有的艺术作品通过冰冷的铁丝生动、形象的再现出来,因此在加工铁画时,需要不停的将各个部件与现有作品复印件进行比对、修正,这是一个十分繁杂的制作过程,因此即使是一个尺寸较小的艺术作品,铁画大师们也需要近一个月的时间制作,并且每加工一幅铁画作品就需要重新打印一份原作纸件,将其用玻璃镜片夹持构成样片,不停的拿起样片进行比对、之后修正、再拿起样片进行比对,如此反复,费事费力,程序复杂。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是实现一种具有显示复制作品功能的砧板结构。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:一种新型铁画加工砧板结构,砧板一侧通过转轴固定有平板电脑,所述的平板电脑显示面朝向砧板上表面。

所述的平板电脑显示面设有保护盖板。

所述的砧板两端固定有光源,所述的光源照射方向朝向砧板上表面。

所述的砧板底面设有用于防震的橡胶垫。

所述的砧板边缘的上沿为呈弧面的敲弯面,上表面固定有端部呈楔形的剪切块。

所述的砧板上表面设有凹孔。

所述的凹孔设有多个且孔径不一。

所述的剪切块固定端设有固定插销,所述的砧板上表面设有与固定插销相配合的销孔。

本实用新型的优点在于,该砧板结构巧妙,便于生产加工铁画作品,而且具有显示屏可以显示需要复制的作品,方便铁画创造过程的比对工作,节约更换原作复印件和变更原作复印件样片位置的时间,提高了铁画制作效率。

附图说明

下面对本实用新型说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1、2为砧板结构示意图;

上述图中的标记均为:1、砧板;2、敲弯面;3、剪切块;4、凹孔;5、平板电脑;6、转轴;7、光源;8、保护盖板。

具体实施方式

参见图1、2可知,用于加工铁画的砧板1为一块矩形金属板,通常为铁板,在该砧板1一侧(通常为矩形砧板长边一侧)通过转轴6固定有平板电脑5,该平板电脑5显示面朝向砧板1上表面,这样通过平板电脑5可以显示需要复制的艺术作品,并可以按照需要的比例显示需要复制的作品局部,使用方便。

由于铁画加工需要使用锤子,为防止因工作失误使锤子砸坏平板电脑5,在平板电脑5显示面加设用于保护显示屏的保护盖板8,同时也可防止铁画部件比对时过热的铁丝烫坏显示屏。在制作铁画作品时,砧板1会不停的被敲打,为确保电子产品的可靠性,减缓砧板1振动强度,在砧板1底板四角固定有用于防震的橡胶垫。

铁画加工是一个十分精细的工作,因此需要操作面光线充足,确保铁画大师制作铁画时能够清晰的看清每一锤是处理到位,因此在砧板1两端(通常为矩形砧板短边一侧)固定有若干光源7,这些光源7照射方向朝向砧板1上表面。

在传统工艺中,砧板即一块四方的铁板,而在捶打工艺中,常常要对铁丝剪切、敲弯等等,因此常需要一些其他工具配合,增加了铁画的制作难度和制作效率。为了进一步提高砧板1在制作铁画时的效率,参见图2可知,在砧板1上表面上固定有一个剪切块3,该剪切块1通过固定端固定在砧板1上,另一端呈楔形,将铁丝放在剪切块3楔形端,再用锤子捶打,则可轻松剪短铁丝。在加工一些大型部件时,固定在砧板1上的剪切块3可能会妨碍加工,因此在剪切块3的固定端设有固定插销,而在砧板1的上表面设有与固定插销相配合的销孔,则剪切块3在砧板1上为可拆卸的结构,解决了妨碍大型部件加工的问题。

为了使砧板具有加工不同造型的功能,砧板1边缘的上沿为呈弧面的敲弯面2,这样将铁丝放置在砧板1边缘的敲弯面2上,则可以敲打出弧形或弯曲的工艺品零部件。为有些作品的零部件呈凸出或凹陷的结构,就此在砧板1上表面并排设置多个孔径不一的凹孔4,将铁丝放置在其中一个凹孔4上,则可以快速的根据该凹孔4大小加工出相应的大小凹陷或凸出结构。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

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