[实用新型]一种会阴理疗垫有效
申请号: | 201320329769.9 | 申请日: | 2013-06-08 |
公开(公告)号: | CN203329199U | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 邓雪;彭文涛;王婷;龙德蓉;胡小燕 | 申请(专利权)人: | 四川大学华西第二医院 |
主分类号: | A61N5/06 | 分类号: | A61N5/06;A61N1/44;A61M37/00 |
代理公司: | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人: | 王芸;韩洋 |
地址: | 610041 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 会阴 理疗 | ||
技术领域
本实用新型涉及医疗用品领域,特别涉及一种会阴理疗垫。
背景技术
在现代医疗活动中,会阴水肿是妇科及产后患者的常见症状,对会阴与会阴缝合部位的热敷理疗将有利于缓解局部疼痛和消除局部水肿或瘀血,从而对创伤的愈合有促进作用。迄今,临床通常采用硫酸镁予以湿热敷,即将硫酸镁浸润到无菌纱布上贴于会阴处,然后用热水袋保温。该方法具有两个缺点:第一,患者固定体位(仰卧屈膝)双腿分开时间较长,使患者活动受限,容易引起疲劳,且存在诱发下肢静脉血栓的风险;第二,需要持续固定热水袋,且热水袋易烫伤。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的上述不足,提供一种置于外阴会阴部位,既能实施热敷又能实施药物理疗的会阴理疗垫。
为实现上述目的,本实用新型提供了以下技术方案:
一种会阴理疗垫,包括由面层和底层构成的空腔体,其空腔体包括上空腔体和下空腔体,其上下空腔体侧边分别设有开口,所述上空腔体内放置有用于对会阴部进行热疗的发热体,下空腔体内放置有用于对会阴部进行药敷的药包。
上述会阴理疗垫中,所述上空腔体和下空腔体为两个独立的腔体。
上述会阴理疗垫中,为了使上空腔体和下空腔体成为两个独立的腔体,通过缝线连接空腔体的的面层和底层来制成一道隔断。
上述会阴理疗垫中,所述上下空腔体侧边的开口处设置有粘扣带,所述粘扣带包括具有钩环的粘扣母带和具有绒毛面的被粘扣公带,粘扣母带和被粘扣公带分别固定于开口处的两边。通过粘扣带可将开口封闭,防止上空腔体内放置的发热体和下空腔体内放置的药包掉出。
上述会阴理疗垫中,所述空腔体的背面设置有粘胶,便于粘贴在裤子上面。
上述会阴理疗垫中,所述理疗垫的下部带有尿管切口,便于尿管从此切口处伸出。
上述会阴理疗垫中,所述空腔体的面层为无纺布。使用时,所述面层与人体皮肤接触。
上述会阴理疗垫中,所述空腔体的底层为防水布。
上述会阴理疗垫中,所述发热体为托玛琳。托玛琳是一种能产生负离子的天然矿石,兼具热电效应和压电效应,常温下能发射4~14μm的远红外线,发射率在0.92以上。远红外线的热效应能引起人体一系列生理效应,激活生物大分子的活性,促进和改善血液循环,增强新陈代谢,提高免疫功能,还具有消炎消肿作用;托玛琳的另一个重要特征是能自动地、永久地释放负离子,从而抑制细菌的生长。
上述会阴理疗垫中,所述药包内填充有硫酸镁、蒲公英或野菊花,具有消除炎症去除水肿的疗效。
会阴理疗垫同女用卫生巾的使用方法类似,将会阴理疗垫贴于人体皮肤,在人体体温的激发下,发热垫内的发热体及时反应释放出热量;理疗垫里配备的药包,具有消除炎症去除水肿的疗效。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果:本实用新型的会阴理疗垫能达到热疗加药敷的作用,增强患者舒适度,有效消除会阴水肿;理疗垫的下部设置有便于尿管伸出的尿管切口,使用方便。
附图说明
图1为实施例1的结构示意图。
图2为图1的右视图。
图3为实施例2的结构示意图。
图中标记:1-面层,2-底层,3-上空腔体,4-下空腔体,5-开口,6-粘扣带,7-缝线,8-尿管切口。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。
实施例1
如附图1、附图2所示,本实施例的会阴理疗垫包括由面层1和底层2构成的空腔体,其空腔体包括上空腔体3和下空腔体4两个独立的腔体,其上下空腔体侧边分别设有开口5,所述上空腔体3内放置有用于对会阴部进行热疗的托玛琳,下空腔体4内放置有用于对会阴部进行药敷的药包,托玛琳及药包分别通过上下空腔体侧边设置的开口5放入,开口5处设置有粘扣带6,通过粘扣带6可将开口5封闭,防止上空腔体3内放置的托玛琳和下空腔体4内放置的药包掉出。为了使上空腔体3和下空腔体4成为两个独立的腔体,通过缝线7连接空腔体的的面层1和底层2来制成一道隔断。
实施例2
如附图3所示,本实施例的会阴理疗垫同实施例1,区别在于理疗垫的下部的还带有尿管切口8,尿管切口8的周围用线缝合,所述尿管切口8便于尿管从此切口处伸出,使本实施例的使用更加方便。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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