[实用新型]织机轴位偏移监测系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及织机监测设备领域，特别地，是一种监测织机转轴位置偏移的监测系统。 

背景技术

常用的纺织机械中包含着大量的作旋转运动的零部件，例如各种传动轴、主轴、电动机的转子等，统称为回转体。在理想的情况下回转体旋转时与不旋转时，对轴承产生的压力是一样的，这样的回转体是平衡的回转体。工程中的各种回转体，由于材质不均匀或毛坯缺陷、加工及装配中产生的误差，以及正常工作中的磨损，使得回转体在旋转时，其上每个微小质点产生的离心惯性力不能相互抵消，离心惯性力通过轴承作用到机械及其基础上，引起振动，产生了噪音，加速轴承磨损，缩短了机械寿命，严重时能造成破坏性事故。为此，必须使转子保持平衡，使其达到允许的平衡精度等级，或使因此产生的机械振动幅度降在允许的范围内。 

在织机类的机械中通常采用实际观察织机的振动或者辨别织机的噪音的方式来判断织机的回转体部件的是否保持平衡，由于织机本身的重量较重而且很多织机采用固定在地面的方式使织机回转体发生不平衡时很难产生振动，同时织机较大的噪音使回转体因不平衡而发生的噪音难以辨别。 

发明内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种织机轴位偏移监测系统，该织机轴位偏移监测系统有效监测织机上各回转体的平衡状态。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是： 

该织机轴位偏移监测系统包括回转体和枢置所述回转体的基座，所述回转体的两端分别设置有定位所述回转体两端中心的定位构件，所述定位构件包括所述回转体两端中心的定位针，所述定位针设置在所述回转体的轴线上，所述定位构件上设置有确定所述定位构件是否发生偏移的监测构件，所述监测构件包括穿过相应所述回转体轴线的反射板和承载并调整所述反射板位置的转动基台，所述转动基台承载所述反射板的平面设置在所述定位针的轴线上，所述转动基台与所述定位针转动连接，所述转动基台与所述基座间设置有锁定所述转动基台角度的弹性构件，位于同一侧的所述回转体一端设置有光学发射头和光学接收头，所述光学发射头发射的光线经各所述反射板反射后进入所述光学接收头。

作为优选，所述转动基台内设置有电子陀螺仪。 

作为优选，所述弹性构件为弹性带。 

作为优选，所述光学发射头和所述光学接收头为一体式，所述光学发射头发射的光线经过的最后一块所述反射板垂直于入射光线，入射光线经原路返回。 

本实用新型的优点在于： 

所述回转体因磨损而发生不平衡时，所述回转体转动时发生振动，所述振动经所述定位针传导至所述转动基台上，带动所述反射板振动，使所述光学发射头发射的光线不能到达所述光学接收头，通过分析所述光学接收头接收光线的强弱很好的监测回转体的工作状态。

附图说明

图1是本织机轴位偏移监测系统的侧视结构示意图； 

图2是本织机轴位偏移监测系统的正视结构示意图。

图中：100、回转体； 110、反射板； 120、电子陀螺仪； 200、定位针； 300、弹性构件； 400、基座； 500、光学发射头。 

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明： 

参阅图1和图2，在本实施例中，该织机轴位偏移监测系统包括回转体100和枢置所述回转体的基座400，所述回转体100的两端分别设置有定位所述回转体100两端中心的定位构件，所述定位构件包括所述回转体100两端中心的定位针200，所述定位针200设置在所述回转体100的轴线上，所述定位构件上设置有确定所述定位构件是否发生偏移的监测构件，所述监测构件包括穿过相应所述回转体100轴线的反射板110和承载并调整所述反射板110位置的转动基台100，所述转动基台100承载所述反射板110的平面设置在所述定位针200的轴线上，所述转动基台100与所述定位针200转动连接，所述转动基台100与所述基座400间设置有锁定所述转动基台100角度的弹性构件300，位于同一侧的所述回转体100一端设置有光学发射头500和光学接收头，所述光学发射头500发射的光线经各所述反射板110反射后进入所述光学接收头。

上述的织机轴位偏移监测系统，所述转动基台100内设置有电子陀螺仪120，所述电子陀螺仪可以监测所述回转体100的轴向运动。 

上述的织机轴位偏移监测系统，所述弹性构件300为弹性带，弹性带成本较低而且便于更换。