[实用新型]一种干法等离子刻蚀机的反应腔

权利要求书

1.一种干法等离子刻蚀机的反应腔，包括圆筒状反应腔和盖在反应腔上面的上盖，上盖的中央位置设有进气孔，反应腔的侧壁、底壁及上盖形成了反应腔，待刻蚀的基片放置在反应腔底壁的中央位置，反应腔上设有取送基片的取送片口；

其特征在于：反应腔内设有与之适配的匀流内衬，匀流内衬包括圆筒状的本体，本体上设有与取送片口对应的传送孔，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀基片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔连接的固定法兰，固定法兰与反应腔之间设有密封槽。

2.如权利要求1所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：匀流槽由呈同心圆排布的槽孔组成，同一个圆周上等间隔地分布有多个槽孔。

3.如权利要求2所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：槽孔为圆弧形，槽孔的宽度约为1.5mm，圆弧形槽孔的圆心角小于或等于20°。

4.如权利要求1或3之一所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：反应腔一侧设有抽气腔，抽气腔分别与抽真空泵和辅助真空流量计连接，反应腔的气体经匀流槽进入抽气腔。

5.如权利要求4所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：反应腔有下侧板，上侧板和壁板围成，下侧板和上侧板固定连接于反应腔的侧壁上，上侧板与侧壁之间、下侧板与侧壁之间，以及壁板与上侧板和下侧板之间均为密封配合。

6.如权利要求5所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：抽真空泵包括分子泵和机械泵，机械泵的接口位于壁板上，分子泵的接口位于下侧板上，上侧板设有能够观察抽气腔内情况的第二观察窗。

7.如权利要求6所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：上盖包括封闭反应腔的腔盖和与腔盖密封配合的石英盘，进气孔设置于石英盘中央，石英盘上设有射频电源上电极接口；反应腔的底壁上设有基片固定装置，基片固定装置上设有射频电源下电极接口。

8.如权利要求7所述的干法等离子刻蚀机的反应腔，其特征在于：反应腔上设有能够观察反应腔内情况的第一观察窗，匀流内衬上设有与第一观察窗对应的观察口。