[实用新型]一种基站射频双工器、基站射频装置及基站射频系统

权利要求书

1.一种基站射频双工器，其特征在于，所述双工器上设有进行散热的第一散热单元，所述双工器的上下端面的任一端面向内凹陷形成谐振腔，所述谐振腔内设有谐振子；所述谐振子包括介质本体，所述介质本体上设有凹孔，所述介质本体的外侧壁或/和所述凹孔的内侧壁上设有导电层。

2.根据权利要求1所述的基站射频双工器，其特征在于，所述谐振腔和第一散热单元一体成型。

3.根据权利要求1所述的基站射频双工器，其特征在于，所述导电层直接附着或通过媒介固定在所述介质本体的外侧壁或/和所述凹孔的内侧壁上。

4.根据权利要求3所述的基站射频双工器，其特征在于，所述导电层覆盖所述介质本体的外侧壁或/和所述凹孔的内侧壁的全部表面或部分表面。

5.根据权利要求1所述的基站射频双工器，其特征在于，所述介质本体的外侧壁上的导电层包括具有几何形状的导电箔片。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的基站射频双工器，其特征在于，所述谐振腔由所述双工器的下端面向内凹陷形成，所述第一散热单元设置在所述双工器的上端面的全部区域或部分区域。

7.根据权利要求1至5任意一项所述的基站射频双工器，其特征在于，所述谐振腔由所述双工器的上端面向内凹陷形成，所述谐振腔和所述第一散热单元分别位于所述双工器上端面的不同区域，所述双工器还包括用于封住所述谐振腔并保护所述谐振腔内的部件的盖板。

8.一种基站射频装置，其特征在于，包括壳体、中射频处理单元和双工器；所述壳体与所述中射频处理单元分别与所述双工器的下端面固定在一起，且所述中射频处理单元设置在由所述壳体与所述双工器围成的腔体内部；所述双工器为权利要求1至7任意一项所述的基站射频双工器，所述第一散热单元用于对所述中射频处理单元进行散热，所述谐振腔的开口与所述壳体的开口相对或相背。

9.根据权利要求8所述的基站射频装置，其特征在于，所述壳体的外侧设有第二散热单元。

10.根据权利要求9所述的基站射频装置，其特征在于，所述壳体与所述双工器之间设有用于防水或防止电磁泄漏的防护部件。

11.一种基站射频系统，其特征在于，包括天线以及与所述天线连接的基站射频装置；所述基站射频装置为权利要求8至10任意一项所述的基站射频装置，所述双工器的一端与所述天线的一端连接，所述中射频处理单元的一端与所述双工器的另一端连接。

12.根据权利要求11所述的基站射频系统，其特征在于，还包括基带处理单元，所述基带处理单元的一端与所述中射频处理单元的另一端连接。