[实用新型]一种光罩人工擦拭装置有效
申请号: | 201320366113.4 | 申请日: | 2013-06-24 |
公开(公告)号: | CN203385992U | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 丁和平 | 申请(专利权)人: | 彩虹(佛山)平板显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/84;B08B13/00 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 蔡和平 |
地址: | 528300 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 人工 擦拭 装置 | ||
技术领域
本实用新型属涉及一种平板显示器生产中使用的光罩人工擦拭装置。
背景技术
在平板显示器的图形加工生产中,为了将光罩上的图案印到涂过光刻胶的玻璃板上,需要使用光罩作为模版来进行曝光,而光罩的洁净程度直接决定印出图案的质量。如果光罩上有大量的灰尘存在,曝光时它就会遮挡光线,在产品上产生残留、短路等不良。在大型自动化生产线上,一般使用光罩自动清洗机进行清洗,自动清洗机一般投资较高。而在没有自动清洗装置的小型生产线或实验室内,就需要专门的擦拭台进行人工擦拭。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光罩人工擦拭装置。
为达到上述目的,本实用新型所采用的技术方案是:包括支撑架,支撑架上设置有与光罩尺寸相匹配的旋转平台,旋转平台通过支撑旋转轴承安装在支撑架上;旋转平台的两侧设置有用于照亮旋转平台上的光罩的两个表面检查灯。
上述的旋转平台外侧的三个面上设置有三块相互垂直的防反光板。
在相对的两个防反光板的外侧设置有用于放置擦拭工具的擦拭工具箱。
上述的旋转平台为厚度为10mm的铝板。
上述的防反光板为经过黑化处理的铝板。
上述的支撑架上方还设置有一横梁,横梁上设置有用于悬挂离子风枪的离子风枪挂钩。
上述表面检查灯的灯头能够任意转动。
上述的表面检查灯为FY-100R表面检查灯。
上述支撑架的四个角设置有垫块。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
本实用新型的旋转台的尺寸与光罩的尺寸相匹配,光罩能够准确卡在旋转台上,擦拭时不会前后左右移动;另外,旋转平台通过支撑旋转轴承能在支撑架旋转任意角度,保证能够看到光罩上面任何一点的异物;最后,旋转平台的两边各有一台灯头可任意转动的表面检查灯,以达到所需要照射的角度;本实用新型结构简单,成本低,完全适用于在小型生产线或实验室内对光罩的人工擦拭。
进一步的,本实用新型在旋转平台的三边上安装防反光黑化处理的铝板,支撑架的整体架构采用不锈钢材料,旋转平台采用重量较轻的10mm铝板,支撑架底部四角的垫块采用防尘、防静电、耐磨的PEEK材料;这些材料的选取进一步保证了光罩擦拭后的洁净效果,防止二次污染。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
其中,1为支撑架;2为表面检查灯;3为防反光板;4为离子风枪挂钩;5为旋转平台;6为支撑旋转轴承;7为擦拭工具箱。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步详细的说明:
参加图1,本实用新型包括底部四角安装有垫块的支撑架1,支撑架1上设置有与光罩尺寸相匹配的旋转平台5,旋转平台5采用厚度为10mm的铝板,旋转平台5通过支撑旋转轴承6安装在支撑架1上;在旋转平台5外侧的三个面上设置有三块相互垂直的防反光板3,防反光板3为经过黑化处理的铝板;其中,相对的两个防反光板3的外侧均设置有擦拭工具箱7和用于照亮旋转平台5上的光罩的两个灯头能够任意转动的表面检查灯2,表面检查灯2为FY-100R表面检查灯;支撑架1的上方还设置有一横梁,横梁上设置有用于悬挂离子风枪的离子风枪挂钩4。
本实用新型在擦拭时使用10级无尘布蘸上酒精进行擦拭,擦拭过后用离子风枪将上面的液体吹干;擦拭时所使用的工具可放置在工具箱内。另外,本实用新型人工擦拭装置需放置在无尘室内进行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于彩虹(佛山)平板显示有限公司,未经彩虹(佛山)平板显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320366113.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备