[实用新型]显示基板的污染物颗粒监控装置及快速热退火系统有效
申请号: | 201320370627.7 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN203337511U | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 田慧 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N15/10 | 分类号: | G01N15/10;H01L21/324 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 污染物 颗粒 监控 装置 快速 退火 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,特别涉及一种对显示基板进行清洁度判断的污染物颗粒监控装置及快速热退火系统。
背景技术
随着半导体技术的不断发展,热退火的应用也越来越普遍,快速热退火具有退火效率高,退火时间较短,热预算较小等特点,在离子注入之后的激活制程中变得尤为重要。另一方面,随着显示基板的特征尺寸不断缩小,器件性能对快速热退火的要求也越来越高,不仅要求退火温度和均匀性的控制更准确,也要求装置内部影响显示基板性能的污染颗粒越来越少,从而才能提高良率,并减少维护频率提高产能。
由于快速热退火工艺是在高温条件下进行,比较容易产生污染物颗粒,另外,显示基板上的水分,有机物等污染物颗粒在高温条件下也会对显示基板和设备内腔造成污染,导致产品性能和良率不能得到保证。
针对以上问题,现有技术包括预清洗和改善轴承中滚轴的材料性能的方法。预清洗主要是显示基板在进入快速热退火设备之前进行化学清洗以除去水,有机物等颗粒,但是此方法使得显示基板在清洗之后的传送环境中仍然会受到外界环境中的污染,并不能很有效地保证快速热退火工艺的清洁度。改善轴承中滚轴的材料性能的方法主要是通过使用硬化的陶瓷滚珠等材料减少机械摩擦来控制颗粒的产生,但是在长期摩擦过程中陶瓷滚珠容易导致表面磨损变形,需要定期更换,这就增加了维护成本。最重要的是这两种方法均不能定量控制污染物颗粒的数量,使得快速热退火工艺品质得不到保证。
因此,需要提供一种显示基板的污染物颗粒监控装置及快速热退火系统以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型所解决的技术问题是提供一种显示基板的污染物颗粒监控装置及快速热退火系统;通过污染物颗粒监测模块对显示基板进行清洁度判断以实现显示基板高清洁度快速热退火处理的目的。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:一种显示基板的污染物颗粒监控装置,包括:
污染物颗粒监测模块,用于检测并采集污染物颗粒信息的;
信息处理模块,用于根据所采集的污染物颗粒信息对显示基板进行清洁度判断;所述污染物颗粒监测模块与所述信息处理模块连接;
所述信息处理模块包括:
运算编辑单元,用于计算显示基板清洁度;
信息接收单元,用于接收反馈信息;
所述信息接收单元与所述运算编辑单元连接;所述污染物颗粒监测模块与所述信息接收单元连接。
进一步地,所述污染物颗粒监测模块是红外光谱仪;所述红外光谱仪与所述信息处理模块连接。
进一步地,所述污染物颗粒监测模块是紫外可见分光光度计;所述紫外可见分光光度计与所述信息处理模块连接。
进一步地,所述污染物颗粒监测模块是质谱仪;所述质谱仪与所述信息处理模块连接。
进一步地,所述信息处理模块还包括:
指令发送单元,用于发送指令;
该指令发送单元连接有传送机构,用于传送显示基板;所述指令发送单元与所述运算编辑单元连接。
进一步地,所述传送机构上设有位置传感器,用于检测显示基板 传送位置;该位置传感器与所述信息接收单元连接。
一种显示基板的快速热退火系统,包括如上述中所述显示基板的污染物颗粒监控装置;还包括:
紫外光处理装置,用于去除显示基板上污染物颗粒;
温度处理装置,用于对显示基板进行快速热退火处理;
所述紫外光处理装置和温度处理装置分别与所述信息处理模块连接。
进一步地,所述紫外光处理装置包括紫外光控制模块,用于控制显示基板去污;该紫外光控制模块与所述指令发送单元连接,用于接收所述信息处理模块发送的指令。
进一步地,所述温度处理装置包括退火控制模块,用于控制显示基板热退火;该退火控制模块与所述指令发送单元连接,用于接收所述信息处理模块发送的指令。
本实用新型与现有技术相比具有以下的优点:
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