[实用新型]一种陶瓷上釉防沉淀装置

说明书

技术领域

本实用新型属于一种陶瓷加工设备，具体涉及一种陶瓷上釉防沉淀装置。

背景技术

上釉是陶瓷生产过程中的重要工序，陶瓷表面的釉质与均匀度决定陶瓷的品质与档次。传统的上釉方法多是用毛笔蘸取釉水对固定在转盘上并随转盘转动的陶瓷坯体表面进行涂刷，但此种方式釉水涂刷不均匀，且易出现脱釉现象，严重影响陶瓷的质量。再者由于釉水是由多种矿物原料混合搅拌而成的，大量使用时其内的矿物原料会发生沉淀，如果发生沉淀就会造成釉水色泽发生变化并造成浪费，进而影响烧制出的陶瓷的表面光泽并增加生产成本，现有陶瓷生产过程中每隔两小时就要对釉水进行搅拌以防止其内的矿物质沉淀而影响陶瓷的上釉效果，其劳动强度大、费时费力。

发明内容

本实用新型旨在于克服现有技术的不足，提供了一种陶瓷上釉防沉淀装置，其可快速、均匀地对陶瓷坯体进行上釉，同时可防止釉水内的矿物质发生沉淀，确保釉水的色泽不会发生变化，提高陶瓷的品质与档次。

本实用新型的陶瓷上釉防沉淀装置，包括箱体，为实现上述目的所采用的技术方案在于：所述箱体的下方设有釉水池，釉水池内设有输釉泵，输釉泵通过进釉管路与箱体相通。

优选地，所述釉水池内还设有伸入箱体内的喷釉管，喷釉管的上端设有露于箱体外的喷釉嘴，喷釉管上处于箱体的下部设有喷釉阀。

优选地，所述箱体的上端设有与箱体连通的溢流槽。

优选地，所述箱体与进釉管路的交界处设有流量调节阀。

优选地，所述箱体的底部为顶端朝下的锥形，进釉管路与锥形底部的顶端连通。

优选地，所述溢流槽通过溢流管与釉水池连通。

优选地，所述溢流槽内设有磁铁棒。

优选地，所述流量调节阀处于锥形底部的顶端处。

本实用新型的陶瓷上釉防沉淀装置，设有承装釉水的箱体，将陶瓷坯体浸于箱体内即可对陶瓷坯体进行上釉，其上釉均匀，提高了陶瓷的质量。上釉时，根据不同的加工需要，可将整个陶瓷坯体浸于箱体内的釉水内，实现为陶瓷坯体的整体上釉，也可将陶瓷坯体的一部分浸于箱体内的釉水内，无需上釉的部分露于釉水外，这样就可实现为陶瓷坯体的部分进水上釉。当对陶瓷坯体的部分进行上釉时，可通过喷釉管上的喷釉嘴为陶瓷坯体的内部进行上釉。本实用新型在盛装釉水的箱体下方设有与箱体底部相通的釉水池，通过釉水池内的输釉泵向箱体内输水，水流向上推动箱体内的釉水，从而防止釉水内的矿物质沉淀，确保釉水的色泽不会发生变化。本实用新型结构设计合理、操作方便快捷、省时省力，可快速、均匀地对陶瓷坯体进行上釉，同时可防止釉水内的矿物质发生沉淀，确保釉水的色泽不会发生变化，提高陶瓷的品质与档次。

附图说明：

附图为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式：

以下结合附图对本实用新型作进一步的说明：

该陶瓷上釉防沉淀装置，包括箱体2，所述箱体2的下方设有釉水池5，釉水池5内设有输釉泵7，输釉泵7通过进釉管路6与箱体2相通，所述箱体2与进釉管路3的交界处设有流量调节阀4。所述箱体2的底部为顶端朝下的锥形，进釉管路3与锥形底部的顶端连通。所述流量调节阀4处于锥形底部的顶端处。釉水池5内还设有伸入箱体2内的喷釉管9，喷釉管9的上端设有露于箱体2外的喷釉嘴，喷釉管9上处于箱体2的下部设有喷釉阀8。所述箱体2的上端设有与箱体2连通的溢流槽1，所述溢流槽1通过溢流管3与釉水池5连通，溢流槽1内设有磁铁棒。

首先将陶瓷坯体浸于箱体2内，同时启动输釉泵7驱动釉水池5内的釉水通过进釉管路6流向箱体2内，防止釉水内的矿物质沉淀，使陶瓷坯体上釉均匀，当对陶瓷坯体的部分进行上釉时，打开喷釉阀8使釉水经喷釉管9由喷釉嘴喷向陶瓷坯体内部为其进行上釉即可。在为陶瓷坯体表面进行上釉的过程中涌出箱体2的釉水由溢流槽1盛接，再通过溢流管3流回釉水池5内进行循环使用。为进一步提高上釉及防釉水沉淀的效果，可将箱体2的底部制成顶端朝下的锥形，使由输釉泵7输入箱体2内的釉水与沉底的矿物质充分接触并将其向上推动以便于对陶瓷坯体的表面进行上釉，同时也防止釉水内的矿物质沉淀，进而提高陶瓷坯体的上釉质量。其中流量调节阀4设于锥形底部的顶端处，所述流量调节阀4为一块减速板，通过减速板来控制进入箱体2内的釉水的流量，进而控制对釉水的推力；溢流槽1内的磁铁棒可用于吸附釉水内参入过多的铁。