[实用新型]一种厚膜加热装置有效

专利信息
申请号: 201320386926.X 申请日: 2013-07-01
公开(公告)号: CN203368780U 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 梁永健;黄伟聪 申请(专利权)人: 黄伟聪
主分类号: H05B3/22 分类号: H05B3/22
代理公司: 广州圣理华知识产权代理有限公司 44302 代理人: 顿海舟;陈业胜
地址: 528306 广东省佛山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 加热 装置
【权利要求书】:

1.一种厚膜加热装置,包括基板和印刷于基板上的厚膜加热电路,其特征在于,所述厚膜加热电路至少为两条且相互并行设置,相邻的厚膜加热电路间具有多个连接端,所述的多个连接端使相邻的厚膜加热电路在多点间并联。

2.根据权利要求1所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述厚膜加热电路呈矩形弯折结构,该矩形弯折结构包括直线部和弯折部。

3.根据权利要求2所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述连接端在弯折部的设置密度要大于其在直线部的设置密度。

4.根据权利要求1所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述厚膜加热电路为三条,所述三条厚膜加热电路呈矩形弯折结构,并相互平行。

5.根据权利要求1至4任一项所述的厚膜加热装置,其特征在于,还包括厚膜温控电路,所述厚膜温控电路沿着厚膜加热电路的延伸轨迹布置。

6.根据权利要求5所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述厚膜温控电路和厚膜加热电路于基板的同一侧设置接出端。

7.根据权利要求6所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述基板为方形平板。

8.根据权利要求6所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述厚膜加热装置设置于煎盘上。

9.根据权利要求1所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述基板为金属基板或非金属基板;所述厚膜加热电路为由稀土和半导体氧化物制成的膜状加热电路。

10.根据权利要求9所述的厚膜加热装置,其特征在于,所述基板为柔性金属基板或柔性非金属基板。

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