[实用新型]一种MOCVD反应设备

权利要求书

1. 一种MOCVD反应设备，包括密封的反应腔室（1）、主进气口（2）、排气口（3）、载片盘（4）、加热组件（5），以及反应腔室底部载片盘下方的次进气口（6），其特征在于，所述加热组件的外侧、载片盘的下方设有第一隔热筒（7），所述第一隔热筒与载片盘构成一上方圆周方向设有间隙的第一腔体（14）。

2. 如权利要求1所述的MOCVD反应设备，其特征在于，所述第一隔热筒的外侧设有同轴心的第二隔热筒（8），所述排气口位于第一、第二隔热筒之间，且第一、第二隔热筒之间水平设有真空均气缓冲板（9），所述真空均气缓冲板上设有第一通孔，所述第一隔热筒上真空均气缓冲板的下方均匀设有第二通孔。

3. 如权利要求2所述的MOCVD反应设备，其特征在于，所述第一通孔的直径和数量与第二隔热筒内的气流流速成比例，所述第二通孔的直径和数量与第二隔热筒与反应腔室内壁之间的气流流速成比例。

4. 如权利要求1或3所述的MOCVD反应设备，其特征在于，所述排气口至少均匀设有2个。

5. 如权利要求4所述的MOCVD反应设备，其特征在于，所述排气口的内径小于或等于40mm。

6. 如权利要求5所述的MOCVD反应设备，其特征在于，所述次进气口位于反应腔室底部的一端设有磁流体封板。