[实用新型]一种反吹氢气装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种反吹氢气装置，解决多晶硅生产中浆料堵塞反吹压差液位计的问题。

背景技术

多晶硅三氯氢硅合成尾气经过干式旋风过滤后进入急冷塔洗涤除尘，尾气中的硅粉颗粒沉降，铝、铁等金属氯化物凝华而留在塔底部，形成含有固体颗粒浆料，而急冷塔的液位测量对整个系统的稳定起到关键性作用，测定其液位目前都采取系统内氢气背压方式来测定，需要对测压点进行氢气反吹，反吹氢气的来源及压力就显得尤为重要。多晶硅生产的氯氢化系统是一个氢气系统，整个系统的压力靠循环氢气压缩机提供，系统循环氢气里面含有少量的氯硅烷，利用其作为反吹氢气有以下缺点：

1、氢气中所含少量氯硅烷在冷凝后容易堵塞液位计引压管；

2、压力与急冷塔压差不大，流速小反吹效果不明显，取压口容易被浆料堵塞。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种反吹氢气装置，采用新生氢气作为反吹气源，压缩到25barg以上，既解决了反吹氢气里混有少量氯硅烷的的问题又可以提升反吹氢气与急冷塔之间的压差，通过此设计，可以很好的解决上述问题，极大地提高系统的安全性。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种反吹氢气装置，包括：

一氢气进气缓冲罐，

一与氢气进气缓冲罐进口连接的进气调节阀，所述氢气进气缓冲罐出口连接一并列设置的两台隔膜压缩机，

一氢气排气缓冲罐，与两台隔膜压缩机的出口连接，其接受压缩至需要压力的反吹氢气，

还包括一氢气流量计，以及一与氢气流量计连接的氢气分配管。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述氢气进气缓冲罐一侧，氢气排气缓冲罐一侧以及氢气分配管的气流通道上均安装一压力表。

通过上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

降低压差液位计维护费用，减少仪表的更换频率；液位测量更加准确，实现系统的自动化操作；

使目前浆料系统的液位测量更加准确，从而使系统操作更加精确，减少了误操作的可能，极大地增加了多晶硅生产系统的安全连续稳定，提高了系统的可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。

参照图1，一种反吹氢气装置，包括：

一氢气进气缓冲罐2，

一与氢气进气缓冲罐2进口连接的进气调节阀1，所述氢气进气缓冲罐2出口连接一并列设置的两台隔膜压缩机3，

一氢气排气缓冲罐4，与两台隔膜压缩机3的出口连接，其接受压缩至需要压力的反吹氢气，

还包括一氢气流量计5，以及一与氢气流量计5连接的氢气分配管6。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述氢气进气缓冲罐2一侧，氢气排气缓冲罐4一侧以及氢气分配管6的气流通道上均安装一压力表7。

本实用新型利用压缩后的高压力氢气与原系统压力形成的高压差，有效地杜绝了浆料进入引压管堵塞测量仪表，同时因使用原生氢气不含循环氢气中的氯硅烷防止了在引压管中的冷凝。

本装置需要使用的设备包括氢气进气缓冲罐、隔膜压缩机(一备一用)，进气调节阀和仪器仪表。13barg新鲜氢气，温度～45℃以下由界外引入，经过进气调节阀1稳压后，首先进入氢气进气缓冲罐2，再经隔膜压缩机3增压至2.5MPa进入氢气排气缓冲罐4，经氢气流量计5计量后进入氢气分配管6后分配至各个反吹压差液位计引压口，防止氯硅烷气体堵塞管道的可能性。对各个引压口进行持续吹扫，因为系统为氢气系统，补充进来的氢气可以继续参与系统反应，减少系统氢气的补充量。

吹扫的氢气进入整个大系统，在系统里面循环，没有产生浪费。隔膜压缩机3以备一用，保持与系统的长周期运行。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。