[实用新型]一种双头研磨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种双头研磨装置，属于金属等材质的表面加工技术领域。

背景技术

研磨抛光是使用物理机械或化学药品降低金属等材质的物体的表面粗糙度的工艺。研磨抛光工艺主要在精密机械和光学工业中使用。抛光后的工件表面光滑具有良好的反射效果。物理抛光是利用细小而坚硬的颗粒物质在被抛光物体表面高速摩擦使其光滑的方法。

发明内容

本实用新型提供一种双头研磨装置。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种双头研磨装置，包括一本体，所述本体上设有两个研磨头；所述研磨头包括一研磨盘，该研磨盘上方设有修正轮，对应该修正轮侧边抵靠设有行星架。

优选的技术方案为：所述修正轮为三个，所述行星架也为三个。

优选的技术方案为：所述三个修正轮成品字形设置。 

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

由于本实用新型设有两个研磨头，因此工作效率得到提高；并且由于部件少，因此制造简单。

附图说明

附图1为本实用新型俯视示意图；

附图2为本实用新型侧视示意图；

附图3为本实用新型立体示意图。

以上附图中：1、本体；2、研磨盘；3、修正轮；4、行星架。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。

实施例一：一种双头研磨装置

参见附图1、附图2和附图3所示，一种双头研磨装置，包括一本体1，所述本体1上设有两个研磨头；所述研磨头包括一研磨盘2，该研磨盘上方设有修正轮3，对应该修正轮3侧边抵靠设有行星架4。

在一优选的实施方式中，所述修正轮3为三个，所述行星架4也为三个。

在一优选的实施方式中，所述三个修正轮3成品字形设置。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。