[实用新型]发声装置有效
申请号: | 201320425841.8 | 申请日: | 2013-07-17 |
公开(公告)号: | CN203378034U | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 高开艳 | 申请(专利权)人: | 瑞声光电科技(常州)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | H04R9/06 | 分类号: | H04R9/06;H04R9/02 |
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地址: | 213167 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发声 装置 | ||
1.一种发声装置,其包括上盖、与所述上盖盖接并且设有收容空间的盆架以及容置于收容空间中的发声单体,所述发声单体设有磁路系统和振动系统,所述振动系统设有振膜,所述振膜设有边缘部,所述盆架设有与所述上盖相对的上表面以及与所述收容空间相对的侧表面,所述上表面设有与所述振膜的边缘部抵接的支撑台,其特征在于:所述盆架的上表面还设有向所述上盖方向延伸的第一突块和与所述上盖抵接的第二突块,所述第一突块位于所述支撑台与所述第二突块之间并且第一突块的上表面高于第二突块的上表面。
2.根据权利要求1所述的发声装置,其特征在于:所述上盖设有自内表面向所述第二突块的方向延伸的固定部,所述固定部与所述第二突块抵接。
3.根据权利要求2所述的发声装置,其特征在于:所述第一突块与所述上盖之间设有间隙。
4.根据权利要求1-3任一权利要求所述的发声装置,其特征在于:所述第一突块设有若干个,相邻第一突块之间设有间隙。
5.根据权利要求1所述的发声装置,其特征在于:所述盆架还设有自侧表面向收容空间延伸的定位块,所述定位块与所述磁路系统抵接。
6.根据权利要求1所述的发声装置,其特征在于:所述第一突块是连续的环形结构。
7.根据权利要求1所述的发声装置,其特征在于:所述盆架设有出声孔,所述出声孔的延伸方向垂直于所述振膜的振动方向。
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