[实用新型]一种二流体喷管组件以及运用此组件的二流体蚀刻装置有效

专利信息
申请号: 201320425911.X 申请日: 2013-07-17
公开(公告)号: CN203355935U 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 陈德和 申请(专利权)人: 宇宙电路板设备(深圳)有限公司
主分类号: B05B7/04 分类号: B05B7/04;H01L21/67
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 流体 喷管 组件 以及 运用 蚀刻 装置
【权利要求书】:

1.一种二流体喷管组件,其特征在于,包括用于输送压缩空气的进气管,以及用于输送药液且与所述进气管并列设置的喷管,所述喷管上间隔设有多个用于混合所述压缩空气和所述药液形成二流体并喷射的喷嘴,所述喷嘴与所述进气管通过导气管连通。 

2.如权利要求1所述的二流体喷管组件,其特征在于,所述喷嘴包括中空的本体,以及设置在所述本体一端的喷头,所述本体的另一端设有与所述导气管连通的进气口,所述本体的一侧设有与所述喷管连通的进液口,所述喷头上设有喷淋口。 

3.如权利要求2所述的二流体喷管组件,其特征在于,所述本体内设有混合通槽,所述混合通槽的两端分别与所述进气口和喷淋口连通,所述混合通槽的侧向与所述进液口连通。 

4.如权利要求1所述的二流体喷管组件,其特征在于,所述进气管的外壁伸出有连通的探头,所述探头通过转接件与所述导气管的一端连通,所述导气管的另一端通过所述转接件与所述喷嘴的进气口连通。 

5.如权利要求4所述的二流体喷管组件,其特征在于,所述转接件包括中空的直角转接头,以及设于所述直角转接头外端的套盖。 

6.一种二流体蚀刻装置,其特征在于,包括机身,设于所述机身上部的用于传送基片的输送滚轮,与被传送基片对应设置的如权利要求1至5任一项所述的二流体喷管组件,以及连通所述喷管组件的供应组件。 

7.如权利要求6所述的二流体蚀刻装置,其特征在于,所述输送滚轮的上侧、下侧或者上下侧设有所述二流体喷管组件。 

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