[实用新型]真空磁控溅射镀铝玻璃镜有效

专利信息
申请号: 201320439616.X 申请日: 2013-07-23
公开(公告)号: CN203396971U 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 夏卫文;王德标;赵建杨 申请(专利权)人: 浙江格拉威宝玻璃技术有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G02B1/10
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 俞润体;沈相权
地址: 311245 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 真空 磁控溅射 镀铝 玻璃
【说明书】:

技术领域

本实用新型是一种玻璃镜,特别涉及一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜。

背景技术

根据镜子加工过程中的生产工艺不同可分为银镜和铝镜,银镜生产工艺中采用的主要原料为硝酸银与铜,银与铜都是重金属元素,生产过程及报废时都对环境造成极其恶劣的影响。

目前,市场上所生产的镀铝玻璃镜,基本都是采用真空蒸发镀铝,即在真空状态下,通过对固体铝条加上足够大的电压和电流,使其蒸发升华,气化的铝分子沉积在玻璃表面,表层铝在成膜过程中迅速氧化,从而在表面形成一层坚硬的保护膜,隔绝空气,再淋两遍漆,从而形成铝镜。采用此种工艺生产的铝镜反射率较银镜低、成像失真,形成的铝层附着力差,工业生产中产量较低等缺点。

发明内容

本实用新型主要是解决现有技术中存在的不足,结构紧凑,且具有良好附着力的铝层,使成像逼真,并能批量连续生产的真空磁控溅射镀铝玻璃镜。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:

一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜,包括玻璃基片层,所述的玻璃基片层的背面设有与之相贴合的铝层,所述的铝层的背面设有与之相贴合的镜背漆层。

铝层:采用磁控溅射法,在真空状态下,通入氩气,氩气在电场和磁场的共同作用下,电离成Ar+和e-,Ar+在磁场洛伦兹力作用下发生螺旋轨迹运动,从而使其对铝靶进行轰击,铝靶上的原子(target atoms)在Ar+的轰击下脱离靶材并溅射到玻璃基板上,原子层层堆积从而形成所需的纳米级厚度膜层。

镜背漆层是有机材料漆,具有更低的细度、背漆硬度及耐水性更好。

作为优选,所述的玻璃基片层的厚度为3-19mm,所述的镜背漆层的厚度为30-50μm。

作为优选,所述的玻璃基片层、铝层、镜背漆层自上而下依次相贴合。  

    因此,本实用新型提供的真空磁控溅射镀铝玻璃镜,结构紧凑,具有环保性能,质量稳定性高,适合连续生产。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面通过实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。

  实施例:如图1所示,一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜,包括玻璃基片层1,所述的玻璃基片层1的背面设有与之相贴合的铝层2,所述的铝层2的背面设有与之相贴合的镜背漆层3。所述的玻璃基片层1的厚度为3-19mm,所述的镜背漆层3的厚度为30-50μm。所述的玻璃基片层1、铝层2、镜背漆层3自上而下依次相贴合。

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